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J-GLOBAL ID：201302264411289291   整理番号：13A0236917

パターン化膜表面上の流動解析とファウリング

Flow analysis and fouling on the patterned membrane surface

著者 (5件)： LEE Young Ki (School of Chemical and Biological Engineering, Inst. of Chemical Process, Seoul National Univ., Seoul 151-744, KOR) ,  WON Young-june (School of Chemical and Biological Engineering, Inst. of Chemical Process, Seoul National Univ., Seoul 151-744, KOR) ,  YOO Jae Hyun (School of Chemical and Biological Engineering, Inst. of Chemical Process, Seoul National Univ., Seoul 151-744, KOR) ,  AHN Kyung Hyun (School of Chemical and Biological Engineering, Inst. of Chemical Process, Seoul National Univ., Seoul 151-744, KOR) ,  LEE Chung-hak (School of Chemical and Biological Engineering, Inst. of Chemical Process, Seoul National Univ., Seoul 151-744, KOR)
資料名： Journal of Membrane Science  (Journal of Membrane Science)
巻： 427  ページ： 320-325  発行年： 2013年01月15日 
JST資料番号： E0669A  ISSN： 0376-7388  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 膜技術における重要な問題の一つは,膜の表面に形成されるファウリングを避けることである。この問題を克服するために,パターン化表面の使用がファウリングを低減する方法として提案された。本論文では,実験研究と数値研究の両方をプリズムパターン化膜システムを用いて行った。著者等の実験において,微生物の局所的な分布;パターンの下部領域でより多くのファウリングと上部領域でのより少ないファウリングを観察した。シミュレーションでは,渦がパターンの下部領域で発達し,そこではスラッジ中の固形成分の凝集体がより容易に形成され,ファウリング形成に有利になった。また,局所壁剪断応力が,渦が生成される下部領域と比較してパターンの上部領域において高いことも観察した。高い剪断応力は,膜表面上の固形成分の剥離を促進し付着を阻止した。シミュレーション結果(パターンの下部領域における渦形成と上部領域の高い応力)は,パターン化膜システムにおける微生物の分布の実験結果(パターンの下部領域でのより多くのファウリングと上部領域でのより少ないファウリング)と一致した。これは,パターン化膜システムにおけるファウリングを低減するために流量特性並びに応力分布の重要性を示した。さらに,直交流膜システムにおける局所的流動と応力分布を考慮に入れることによってパターンをより効率的に設計する必要があることを強調した。Copyright 2013 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： *流動解析 ,  汚損 ,  *計算流体力学 ,  微生物 ,  *剪断応力 ,  渦 ,  シミュレーション ,  応力分布 ,  パターン形成 ,  精密濾過 ,  活性汚泥
準シソーラス用語： 活性スラッジ ,  *膜ファウリング ,  *壁剪断応力 ,  パターン化

分類 (2件)： 膜分離  (XD02120Z) ,  下水,廃水の物理的処理  (SC03040L)

タイトルに関連する用語 (3件)： パターン化 ,  流動解析 ,  ファウリング