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J-GLOBAL ID：201302265036108485   整理番号：11A0030479

光感ポリイミド絶縁層を用いたNb/AlAlOx/Nb接合による超伝導量子干渉素子の新たな作製プロセス

New fabrication process for superconducting quantum interference devices with Nb/AlAlOx/Nb junctions by using photosensitive polyimide insulation layer’s

著者 (7件)： KAWAI J ,  SHIMOZU T ,  KIKUCHI K ,  KAWABATA M ,  NAKAGAWA H ,  AOYAGI M ,  UEHARA G
資料名： IEEE TRANSACTIONS ON APPLIED SUPERCONDUCTIVITY
巻： 15  号： 2  ページ： 825-828  発行年： 2005年 
JST資料番号： O2729A  ISSN： 1051-8223  資料種別： 逐次刊行物 (A)
発行国： その他 (ZZZ)  言語： 英語 (EN)

タイトルに関連する用語 (6件)： ポリイミド ,  絶縁層 ,  Nb ,  超伝導量子干渉素子 ,  作製 ,  プロセス