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J-GLOBAL ID：201302265901176300   整理番号：13A1700120

NbN/AlNナノ構造多層薄膜のAlN層厚依存コヒーレントエピタキシャル成長,応力及び硬さ

The AlN layer thickness dependent coherent epitaxial growth, stress and hardness in NbN/AlN nanostructured multilayer films

著者 (8件)： WEN Mao (Dep. of Materials Sci., Key Lab. of Automobile Materials, MOE, and State Key Lab. of Superhard Materials, Jilin ...) ,  HUANG Hao (Titanium Alloys Lab. Beijing Inst. of Aeronautical Materials, Beijing 81-15 100095, CHN) ,  ZHANG Kan (Dep. of Materials Sci., Key Lab. of Automobile Materials, MOE, and State Key Lab. of Superhard Materials, Jilin ...) ,  MENG Qingnan (Dep. of Materials Sci., Key Lab. of Automobile Materials, MOE, and State Key Lab. of Superhard Materials, Jilin ...) ,  LI Xin (Dep. of Materials Sci., Key Lab. of Automobile Materials, MOE, and State Key Lab. of Superhard Materials, Jilin ...) ,  KONG Lingwei (Dep. of Materials Sci., Key Lab. of Automobile Materials, MOE, and State Key Lab. of Superhard Materials, Jilin ...) ,  HU Chaoquan (Dep. of Materials Sci., Key Lab. of Automobile Materials, MOE, and State Key Lab. of Superhard Materials, Jilin ...) ,  ZHENG Weitao (Dep. of Materials Sci., Key Lab. of Automobile Materials, MOE, and State Key Lab. of Superhard Materials, Jilin ...)
資料名： Surface & Coatings Technology  (Surface & Coatings Technology)
巻： 235  ページ： 367-375  発行年： 2013年11月25日 
JST資料番号： D0205C  ISSN： 0257-8972  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： AlN層の厚さ(l_AlN)が2.2~12.2nmであるNbN/AlNのナノ多層薄膜を,Ar/N₂混合物中の反応性マグネトロンスパッタリングにより,Si(100)基板上に作製した。作製したNbN/AlNナノ多層薄膜の構造的および機械的特性をl_AlNの函数として調査した。低入射角X線反射率,X線回折,透過型電子顕微鏡,極点図測定及び超微小硬さ試験によって評価した。l_AlNが小さい場合は,六方晶ウルツ鉱-AlN(0002)及び面心立方晶(fcc)AlN(111)の両方がfcc-NbN(111)とコヒーレントである。l_AlNが大きくなると,fcc-NbN(111)/w-AlN(0002)のコヒーレント成長が促進される。l_AlNが2.2から12.2nmまで大きくなってもすべてのNbN/AlNナノ多層薄膜の硬さは32.7~37.5GPaの間に留まる。これらの現象と機構について考察した。Copyright 2013 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： *ニオブ化合物 ,  *窒化アルミニウム ,  ナノ構造 ,  多層膜 ,  薄膜 ,  層厚 ,  *エピタクシー ,  応力 ,  *押込硬さ ,  多層 ,  マグネトロンスパッタリング ,  ケイ素 ,  基板 ,  微小硬さ ,  六方晶系 ,  ウルツ鉱型結晶 ,  アルゴン ,  窒素 ,  混合気体 ,  コヒーレンス
準シソーラス用語： *窒化ニオブ ,  反応性マグネトロンスパッタリング

分類 (2件)： その他の無機化合物の薄膜  (BK14060A) ,  セラミック・磁器の性質  (YC03030G)

タイトルに関連する用語 (9件)： NbN ,  AlN ,  ナノ構造 ,  多層薄膜 ,  層厚 ,  コヒーレント ,  エピタキシャル成長 ,  応力 ,  硬さ