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J-GLOBAL ID:201302266047764291   整理番号:13A0017776

Si細線導波路と相変化材料による超小型光スイッチ=メモリ性と大きな屈折率変化特性を有する相変化材料薄膜をSi細線導波路上に形成した超小型光スイッチ=

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資料名:
巻: 24  号:ページ: 53-56  発行年: 2013年01月01日 
JST資料番号: L1746A  ISSN: 0917-026X  CODEN: HARAEW  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 解説  発行国: 日本 (JPN)  言語: 日本語 (JA)
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超小型光スイッチの試作を行い,良好な特性を得られた。光スイッチの相変化材料は,Ge2Sb2Te5を用いた(膜厚25nm)。半導体レーザ(660nm)を直接変調して光パルスを生成し,対物レンズでスポット径約1.2μmに集光した後,相変化薄膜に照射し評価を行った。相変化薄膜の結晶化条件とアモルファス化条件を示した。Si細線導波路上に相変化薄膜を蒸着しMII型光ゲートスイッチを作製した。スイッチング立ち上がり時間(結晶相→アモルファス相)は130ns,立下り時間(アモルファス相→結晶相)は400nsであった。繰返しスイッチングは2千回まで約9dBの消光比であった。スイッチング状態の透過スペクトルも評価した。
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