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J-GLOBAL ID：201302266066844387   整理番号：13A1372023

シリカエーロゲルのケイ酸マグネシウムセラミクスによる位置特異的架橋

Regioselective cross-linking of silica aerogels with magnesium silicate ceramics

著者 (5件)： FRANZEL L. (Virginia Commonwealth Univ., VA, USA) ,  WINGFIELD C. (Virginia Commonwealth Univ., VA, USA) ,  BERTINO M. F. (Virginia Commonwealth Univ., VA, USA) ,  MAHADIK-KHANOLKAR S. (Missouri Univ. Sci. and Technol., MO, USA) ,  LEVENTIS N. (Missouri Univ. Sci. and Technol., MO, USA)
資料名： Journal of Materials Chemistry A. Materials for Energy and Sustainability  (Journal of Materials Chemistry A. Materials for Energy and Sustainability)
巻： 1  号： 19  ページ： 6021-6029  発行年： 2013年05月21日 
JST資料番号： W0204B  ISSN： 2050-7488  CODEN： JMCAET  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： テトラメトキシシラン(TMOS),TMOS+トリメトキシシリルプロピル メチルメタクリレート(MSMA),TMOS+MSMA+ポリアクリロニトリル(PAN)をエタノール水溶液中で縮合/超臨界エタノール乾燥によりエーロゲルを調製した(A)。マグネシウム片と混合し850°C熱処理により表面に酸化マグネシウムおよびケイ酸マグネシウム層を形成した(B)。走査電子顕微鏡,透過型電子顕微鏡,エネルギー分散X線分光分析,X線回折によりキャラクタリゼーションを行った。PANゲル(B)は表面に炭素殻をもち,高強度(28MPa)および高い硬度(27.7MPa)を示した。比表面積(170m²/g)およびYoung率(374MPa)は若干低下した。電子エネルギー損失分光法とあわせて,ポリアクリロニトリル被覆が領域選択的に表面を被覆し,それ以外の領域でのみケイ酸マグネシウム層が生成することを確かめた。

シソーラス用語： *シリカヒューム ,  *被覆 ,  *ケイ酸マグネシウム ,  *酸化マグネシウム ,  位置特異性反応 ,  オレフィン化合物 ,  カルボン酸エステル ,  脂肪族カルボン酸 ,  不飽和カルボン酸 ,  ポリアクリロニトリル ,  縮合反応 ,  乾燥 ,  マグネシウム ,  固相反応 ,  走査電子顕微鏡 ,  透過型電子顕微鏡 ,  エネルギー分散X線分光分析 ,  X線回折 ,  構造 ,  硬度 ,  比表面積 ,  Young率 ,  強度 ,  電子エネルギー損失分光法 ,  *炭素 ,  コアシェル構造 ,  有機ケイ素化合物
準シソーラス用語： コーティング ,  シリカエアロゲル ,  メタクリル酸エステル ,  縮合 ,  超臨界乾燥

分類 (2件)： エーロゾル  (CB11030Y) ,  その他の無機化合物の薄膜  (BK14060A)

物質索引 (2件)： テトラメトキシシラン ,  メタクリル酸3-(トリメトキシシリル)プロピル

タイトルに関連する用語 (3件)： ケイ酸マグネシウム ,  セラミクス ,  架橋