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J-GLOBAL ID：201302266115377889   整理番号：13A1216259

スパッタリング法による人工光合成用酸化チタン電極の合成

著者 (1件)： 中村嘉孝 (八戸工高専)
資料名： 八戸工業高等専門学校紀要
号： 47  ページ： 21-25  発行年： 2012年12月21日 
JST資料番号： S0436A  ISSN： 0385-4124  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 人工光合成に必要な水を光分解し水素イオンと電子を効率よく生成する酸化チタン電極の結晶構造と様々な結晶面を持った薄膜を得るための作製条件を示した。反応性マグネトロンスパッタリング法によりTiO₂薄膜を作製する際に成膜圧力や酸素分圧を変化させると共に単結晶基板の種類と結晶面によるTiO₂薄膜の結晶構造と配向性の変化をX線回折法により評価する方法と結果を示した。成膜圧力を変えることにより単相のルチル型とアナターゼ型のTiO₂薄膜を作製できることがわかった。酸素分圧の変化は影響がないことがわかった。様々な基板材料と基板結晶面を用いることにより3種類のTiO₂薄膜と7種類の配向性をもつTiO₂薄膜を作製できた。

シソーラス用語： *光合成 ,  光触媒反応 ,  *酸化チタン ,  *光触媒 ,  *半導体薄膜 ,  *RFスパッタリング ,  マグネトロンスパッタリング ,  *薄膜成長 ,  単結晶 ,  基板 ,  酸化マグネシウム ,  酸化アルミニウム ,  チタン酸ストロンチウム ,  アナターゼ型結晶 ,  ルチル型結晶 ,  酸化鉱物 ,  結晶構造 ,  圧力効果 ,  分圧 ,  *電極
準シソーラス用語： 人工光合成 ,  ブルッカイト ,  酸素分圧

分類 (2件)： 酸化物薄膜  (BK14050P) ,  光化学反応  (CB08020F)

タイトルに関連する用語 (4件)： スパッタリング法 ,  人工光合成 ,  酸化 ,  チタン電極