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J-GLOBAL ID：201302266406521944   整理番号：13A1693399

ナノ結晶のためのレドックス応答性スタビライザのモジュラーデザイン

Modular Design of Redox-Responsive Stabilizers for Nanocrystals

著者 (6件)： FUHRMANN Kathrin (Swiss Federal Inst. Technol. Zurich (ETH Zuerich), Zurich, CHE) ,  POLOMSKA Anna (Swiss Federal Inst. Technol. Zurich (ETH Zuerich), Zurich, CHE) ,  AEBERLI Carmen (Swiss Federal Inst. Technol. Zurich (ETH Zuerich), Zurich, CHE) ,  CASTAGNER Bastien (Swiss Federal Inst. Technol. Zurich (ETH Zuerich), Zurich, CHE) ,  GAUTHIER Marc A. (Swiss Federal Inst. Technol. Zurich (ETH Zuerich), Zurich, CHE) ,  LEROUX Jean-Christophe (Swiss Federal Inst. Technol. Zurich (ETH Zuerich), Zurich, CHE)
資料名： ACS Nano  (ACS Nano)
巻： 7  号： 9  ページ： 8243-8250  発行年： 2013年09月 
JST資料番号： W2326A  ISSN： 1936-0851  CODEN： ANCAC3  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 低水溶性薬剤には,溶解性向上のため,”ナノ結晶(NC)”として知られるコロイド分散が応用される。しかしNCは高い表面エネルギーを持つため,その凝集性を界面活性剤で抑制する必要がある。最適な界面活性剤はNC表面に対して高親和性である必要があり,さらにサイズ分布の変更などの可能性も提供する,誘発機構を有することが望ましい。本研究では,酸化による誘発前後のNCを安定化し,それによって,最適な応答性を可能とするための,ポリマ性スタビライザの親和性最適化を目的とするモジュラー的で総合的な戦略を提示する。10個のレドックス応答性ポリマ性スタビライザを2個の親ブロック共重合体を用いて重合後修飾により調製した。パクリタキセルNCに対するこれらポリマの安定化能やサイズと溶解性に対する活性酸素種曝露による酸化の影響を検討した。本システムはNCに誘発安定化コーティングを行うための有用ツールとなる。

シソーラス用語： *ナノ結晶 ,  *酸化還元反応 ,  後重合 ,  化学修飾 ,  ナノ粒子 ,  抗腫瘍薬 ,  ポリエステル ,  活性酸素 ,  安定剤 ,  *製剤コーティング ,  脂環式化合物 ,  脂肪酸 ,  芳香族カルボン酸 ,  酸素複素環化合物 ,  オレフィン化合物 ,  架橋化合物 ,  カルボン酸エステル ,  アミノアルコール ,  アミノカルボン酸 ,  第二アルコール ,  ヒドロキシ酸 ,  ヒドロキシケトン ,  ポリオール
準シソーラス用語： チオール-イン ,  後重合修飾

分類 (1件)： 製剤一般  (GY02010Z)

物質索引 (1件)： パクリタキセル

タイトルに関連する用語 (4件)： ナノ結晶 ,  レドックス ,  応答性 ,  スタビライザ