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J-GLOBAL ID：201302266587624189   整理番号：13A1797158

電界紡糸したナノファイバーマット上にリソグラフィにより作製したマイクロパターン化伸縮可能な回路とひずみセンサー

Micropatterned Stretchable Circuit and Strain Sensor Fabricated by Lithography on an Electrospun Nanofiber Mat

著者 (4件)： PARK Minwoo (Yonsei Univ., Seoul, KOR) ,  IM Jungkyun (Samsung Advanced Inst. of Technol., Gyeonggi-Do, KOR) ,  PARK JongJin (Samsung Advanced Inst. of Technol., Gyeonggi-Do, KOR) ,  JEONG Unyong (Yonsei Univ., Seoul, KOR)
資料名： ACS Applied Materials & Interfaces  (ACS Applied Materials & Interfaces)
巻： 5  号： 17  ページ： 8766-8771  発行年： 2013年09月11日 
JST資料番号： W2329A  ISSN： 1944-8244  CODEN： AAMICK  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 電界紡糸したナノファイバーマットの任意のマイクロパターン化にリソグラフィアプローチを導入した。電界紡糸したポリ(4-ビニルピリジン)(P4VP)ナノファイバーマットを金属マスクを通してUV/O₃(UVO)照射にさらし,ナノファイバーを酸化してパターンを作製した。マスクで遮蔽されたナノファイバーは溶媒中で溶解させる。Au前駆体はポリマーのピリジン基と錯体を形成する。錯体化と還元のサイクルを繰り返すと,複合体ファイバーマットの抵抗率が大きく減少する。還元サイクルの数とファイバーマットの厚さを制御することにより抵抗率は調節できる。ノズルプリンティングを採用して,ひずみセンサーを作製した。

シソーラス用語： *ナノファイバ ,  *エレクトロスピニング ,  *リソグラフィー ,  *パターン形成 ,  *センサ ,  P4VP ,  電気抵抗率 ,  紫外線照射 ,  オゾン処理 ,  金錯体 ,  電子技術 ,  ナノ複合材料
準シソーラス用語： *ミクロパターン形成 ,  *歪センサ ,  フレキシブルエレクトロニクス

分類 (1件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (7件)： 電界紡糸 ,  ファイバーマット ,  リソグラフィ ,  作製 ,  マイクロパターン ,  伸縮 ,  ひずみセンサー