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J-GLOBAL ID：201302267995972272   整理番号：13A1409632

1,3-双極環状付加による非晶質炭素薄膜の表面修飾

Surface modification of amorphous carbon thin films by 1,3-dipolar cycloaddition

著者 (2件)： AOI Yoshifumi ,  TADA Akihiro
資料名： Diamond and Related Materials  (Diamond and Related Materials)
巻： 38  ページ： 63-68  発行年： 2013年09月 
JST資料番号： W0498A  ISSN： 0925-9635  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 4-(トリフルオロメチル)ベンズアルデヒドとN-メチルヒドロキシルアミンの縮合で生成した,ニトロンの1,3-双極環状付加によって非晶質炭素薄膜表面を首尾よく修飾した。非晶質炭素薄膜は電子サイクロトロン共鳴スパッタリングで蒸着し,そして主としてsp²混成炭素からなるものであった。非晶質炭素薄膜表面の有機分子による修飾はX線光電子分光法(XPS),Raman,及び原子間力顕微鏡法(AFM)で確認した。F1s,N1s,C1s電子スペクトルは修飾非晶質炭素薄膜の表面上の有機分子の存在を明らかにした。表面被覆率は反応温度,反応物質濃度,及び反応時間と共に増大した。Copyright 2013 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： DLC膜 ,  スパッタ蒸着 ,  ECRプラズマ ,  表面改質 ,  *1,3-双極環状付加 ,  X線光電子分光法 ,  分子構造 ,  化学組成 ,  酸素 ,  炭素 ,  窒素 ,  フッ素 ,  Raman分光法 ,  電子配置 ,  原子間力顕微鏡 ,  表面構造 ,  被覆率 ,  有機化合物 ,  ニトロン
準シソーラス用語： *非晶質炭素薄膜 ,  *表面修飾 ,  *表面被覆率 ,  有機分子

分類 (3件)： 炭素とその化合物  (YB02060D) ,  その他の無機化合物の薄膜  (BK14060A) ,  環化反応,開環反応  (CF02050I)

物質索引 (2件)： 4-(トリフルオロメチル)ベンズアルデヒド ,  N-メチルヒドロキシルアミン

タイトルに関連する用語 (4件)： 双極環状付加 ,  非晶質 ,  炭素薄膜 ,  表面修飾