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J-GLOBAL ID：201302268142967623   整理番号：13A0764109

種々の基板上のグラフェンの摩擦に対する表面形状の影響

Effect of surface morphology on friction of graphene on various substrates

著者 (12件)： CHO Dae-Hyun (Sungkyunkwan Univ., Suwon, KOR) ,  CHO Dae-Hyun (Columbia Univ., New York, USA) ,  WANG Lei (Samsung-SKKU Graphene Center (SSGC), Suwon, KOR) ,  KIM Jin-Seon (Sungkyunkwan Univ., Suwon, KOR) ,  KIM Jin-Seon (Columbia Univ., New York, USA) ,  LEE Gwan-Hyoung (Samsung-SKKU Graphene Center (SSGC), Suwon, KOR) ,  LEE Gwan-Hyoung (Samsung Electronics, Yongin, KOR) ,  KIM Eok Su (Sungkyunkwan Univ., Suwon, KOR) ,  LEE Sunhee (Sungkyunkwan Univ., Suwon, KOR) ,  LEE Sang Yoon (Sungkyunkwan Univ., Suwon, KOR) ,  HONE James (Samsung-SKKU Graphene Center (SSGC), Suwon, KOR) ,  LEE Changgu (Sungkyunkwan Univ., Suwon, KOR)
資料名： Nanoscale  (Nanoscale)
巻： 5  号： 7  ページ： 3063-3069  発行年： 2013年04月07日 
JST資料番号： W2323A  ISSN： 2040-3364  CODEN： NANOHL  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： グラフェンと基板間の吸着性に対する表面形状や接触条件の影響を知るために,SiO₂,h-BN,バルク状グラフェン,マイカとグラフェン間の摩擦を摩擦力顕微鏡(FFM)を用いて調べた。機械的に剥離したグラフェンは非常に平坦な表面を有し原子的に平坦な基板上で低摩擦を示す事を見いだした。これはSiO₂上のグラフェンとは異なる結果である。h-BN上のグラフェンの摩擦は膜厚に依存しなかった。原子スティックスリップイメージングにより,h-BN上のグラフェンではパッカリング効果が見られない事を示した。

シソーラス用語： *炭素材 ,  *形態 ,  二酸化ケイ素 ,  窒化ホウ素 ,  雲母 ,  力顕微鏡 ,  *摩擦 ,  ナノ構造 ,  基板 ,  吸着 ,  *グラフェン
準シソーラス用語： マイカ ,  表面形状 ,  摩擦力顕微鏡 ,  六方晶窒化ホウ素

分類 (1件)： 固体の表面構造一般  (BK15010E)

タイトルに関連する用語 (3件)： グラフェン ,  摩擦 ,  表面形状