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J-GLOBAL ID:201302268269127659   整理番号:13A1176134

FTIR法を用いたH-D-FER上のN2とCOの吸着の研究

FTIR study of N2 and CO adsorption on H-D-FER
著者 (2件):
資料名:
巻: 177  ページ: 59-65  発行年: 2013年09月01日 
JST資料番号: E0642C  ISSN: 1387-1811  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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ヒドロキシル基の酸性度に関する情報を得るために,H-D-FER試料上のN2の低温吸着がFTIR分光法で研究された。3種のゼオライト架橋ヒドロキシル基が3609.3596および3555cm-1(100Kでは3614,3600,および3556cm-1)と明白に区別された。各々のOD基は,2662,2653および2623cm-1(100Kでは2666,2656および2621cm-1)に観察された。窒素は,最初の最も高い周波数のヒドロキシル基と最後の最も周波数の低いヒドロキシル基に影響した。90~110cm-1なるOHモードのシフトがそれらの異なるヒドロキシル基(OD基に対しては64~79cm-1)に対して測定された。CO吸着実験は,CO分子が架橋型ヒドロキシル基の酸性度の測定に便利でないことを示した。何故ならば,Fermi共鳴と溶媒和の結果として,スペクトルが複雑であるからである。Copyright 2013 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.
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分類 (2件):
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物理化学一般その他  ,  その他の触媒 
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