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J-GLOBAL ID：201302268477754349   整理番号：13A0138108

蛋白質パターンに利用するための調整可能な特徴を有する高分子ブラシナノパターン

Polymer brush nanopatterns with controllable features for protein pattern applications

著者 (9件)： LI Yunfeng (Jilin Univ., Changchun, CHN) ,  ZHANG Junhu (Jilin Univ., Changchun, CHN) ,  FANG Liping (Jilin Univ., Changchun, CHN) ,  JIANG Liming (Jilin Univ., Changchun, CHN) ,  LIU Wendong (Jilin Univ., Changchun, CHN) ,  WANG Tieqiang (Jilin Univ., Changchun, CHN) ,  CUI Liying (Jilin Univ., Changchun, CHN) ,  SUN Hongchen (Jilin Univ., Changchun, CHN) ,  YANG Bai (Jilin Univ., Changchun, CHN)
資料名： Journal of Materials Chemistry  (Journal of Materials Chemistry)
巻： 22  号： 48  ページ： 25116-25122  発行年： 2012年12月28日 
JST資料番号： W0204A  ISSN： 0959-9428  CODEN： JMACEP  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： シリコンおよび溶融シリカ基板表面を3-アミノプロピルトリメトキシシランとの気-固反応によってアミノ官能化し,原子移動ラジカル重合(ATRP)開始剤2-ブロモイソブチリルブロミドと反応させ,ポリスチレンコロイド結晶(コロイドリソグラフィー)またはフォトレジストパターン(フォトリソグラフィー)と酸素プラズマ処理とによってATRP開始剤パターンを作製した。ATRPによってポリメタクリル酸2-ヒドロキシルエチルおよびポリメタクリル酸2-(ジメチルアミノ)エチルの高分子ブラシパターンを作製した。高分子ブラシパターンを利用して蛋白質パターンを作製し,細胞接着によって細胞パターンも調製した。

シソーラス用語： *パターン形成 ,  *高分子ブラシ ,  表面反応 ,  原子移動ラジカル重合 ,  ポリスチレン ,  リソグラフィー ,  フォトリソグラフィー ,  プラズマ ,  *タンパク質 ,  *細胞接着
準シソーラス用語： ATRP【重合】 ,  コロイドリソグラフィー ,  酸素プラズマ

分類 (2件)： 固-液界面  (CB12050B) ,  単独重合  (CG04020S)

物質索引 (2件)： 3-アミノプロピルトリメトキシシラン ,  2-ブロモイソブチリルブロミド

タイトルに関連する用語 (3件)： 蛋白質 ,  高分子ブラシ ,  ナノパターン