文献

J-GLOBAL ID：201302268839270248   整理番号：13A1598127

高分子結晶粒界の高分解能TEM観察

著者 (1件)： 登阪雅聡 (京大 化研)
資料名： 日本接着学会誌  (Journal of the Adhesion Society of Japan)
巻： 49  号： 10  ページ： 381-388  発行年： 2013年10月01日 
JST資料番号： G0749A  ISSN： 0916-4812  CODEN： NSEGE7  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 解説  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 高分解能電子顕微鏡法(HREM)は金属や無機化合物の結晶構造解析に多く用いられているが高分子材料に適用した場合は試料が電子損傷を受けるために問題を生じることが多い。しかし高分子結晶の構造解析については一定条件を充たせば適用可能である場合がある。本稿ではこの方法の実施のために必要な基礎知識(微妙なピント外し,材料を損傷しない照射線量,コントラストと解像度),測定時の留意事項とデータ処理(限界照射線量の把握,画像処理,結晶粒界解析法)などについて説明した。実例としてシンジオタクチックポリスチレンβ型単結晶の積層欠陥解析,及びアイソタクチックポリブテン-Iの結晶転移解析について説明した。

シソーラス用語： *高分子結晶 ,  *構造解析 ,  *結晶粒界 ,  結晶構造 ,  電子顕微鏡観察 ,  *高分解能電子顕微鏡 ,  計測 ,  材料被害 ,  制御 ,  焦点合せ ,  *照射線量 ,  *コントラスト ,  分解能 ,  *画像処理 ,  ポリスチレン ,  ポリブテン
準シソーラス用語： *HREM【顕微鏡】 ,  *アイソタクチックポリブテン-1 ,  *シンジオタクチックポリスチレン ,  *デフォーカス ,  *解像度 ,  *高分解能電子顕微鏡法 ,  *材料損傷 ,  測定法 ,  *損傷制御 ,  粒界 ,  *粒界構造

分類 (3件)： 高分子固体の構造と形態学  (CG02022M) ,  高分子の結晶構造  (BK10000K) ,  電子分光法  (BK01050P)

引用文献 (25件)：

• 1) J.M.Cowley,"Diffraction Physics (2nd revised ed)", North-Holland, Amsterdam(1981).
• 2) D.C.Martin, and E.L.Thomas,Polymer,36,1743(1995).
• 3) I.G.Voigt-Martin,R.W.Garbella,and M.Schumacher, Macromolecules,25,961(1992).
• 4) R.Danev,and K.Nagayama,Ultramicroscopy,88,243 (2001).
• 5) R.Danev,H.Okawara,N.Usuda,K.Kametani,and K.Nagayama, J.Biol.Phys.,28,627(2002).

タイトルに関連する用語 (4件)： 高分子 ,  結晶粒界 ,  高分解能 ,  TEM観察