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J-GLOBAL ID:201302269052456030   整理番号:13A0814742

二波長レーザ書込み技術を用いたマイクロ光学作製に関するバイメタルグレースケールフォトマスク

Bimetallic Grayscale Photomasks for Micro-optics Fabrication Using Dual Wavelength Laser Writing Techniques
著者 (2件):
資料名:
巻: 8522  ページ: 85222K.1-85222K.12  発行年: 2012年 
JST資料番号: D0943A  ISSN: 0277-786X  CODEN: PSISDG  資料種別: 会議録 (C)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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二重波長グレースケールマスクレーザ書き込み及び測定システムを開発した。多重線アルゴンレーザを,単一レーザ線に分割することに成功した。最も強力な線をビーム経路に向け,書込みビームとして用いた。最短波長も,プロービングビームとして使用し,ターゲットマスクの光密度を測定した。このシステムは二つの計測に利用できる。第一は,書き込みながらの実時間における測定で,第二の方法は,マスクがパターン化された後の測定である。レーザ線フィルタを用いて,書込みレーザビームを,プロービングのみを残してビーム経路から除去できる。
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分類 (2件):
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レーザの応用  ,  気体レーザ 
タイトルに関連する用語 (4件):
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