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J-GLOBAL ID：201302269192324819   整理番号：13A0616783

無電解ニッケルめっき法によるNi/グラフェンシートの合成

Synthesis of Ni/graphene sheets by an electroless Ni-plating method
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著者 (4件)：
Hu Qinghua

Hu Qinghua について

(Wuhan Univ. of Sci. and Technol. The State Key Lab. Breeding Base of Refractories and Ceramic, Wuhan)

Wuhan Univ. of Sci. and Technol. The State Key Lab. Breeding Base of Refractories and Ceramic, Wuhan について

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Wang Xitang

Wang Xitang について

(Wuhan Univ. of Sci. and Technol. The State Key Lab. Breeding Base of Refractories and Ceramic, Wuhan)

Wuhan Univ. of Sci. and Technol. The State Key Lab. Breeding Base of Refractories and Ceramic, Wuhan について

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Chen Hao

Chen Hao について

(School of Chemistry and Chemical Engineering,Jiujiang Univ., Jiujiang)

School of Chemistry and Chemical Engineering,Jiujiang Univ., Jiujiang について

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Wang Zhoufu

Wang Zhoufu について

(Wuhan Univ. of Sci. and Technol. The State Key Lab. Breeding Base of Refractories and Ceramic, Wuhan)

Wuhan Univ. of Sci. and Technol. The State Key Lab. Breeding Base of Refractories and Ceramic, Wuhan について


資料名：
Xinxing Tan Cailiao  (Xinxing Tan Cailiao)

Xinxing Tan Cailiao について


巻： 27  号： 1  ページ： 35-41  発行年： 2012年 
JST資料番号： W1529A  ISSN： 1007-8827  CODEN： XTCAFT  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 中国 (CHN)  言語： 英語 (EN)
抄録/ポイント：
抄録/ポイント
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還元剤としてNaBH_4を用い,NiSO_4溶液中での無電解にニッケルめっきによって,Ni/グラフェンシートをグラフェンオキシドシートから合成した。このサンプルを,X線回折法,走査および透過型電子顕微鏡によって特性評価した。Ni/グラフェンシートのスタッキングは,メソ-およびマクロ細孔の形成をもたらした。窒素吸着結果より,メソ-およびマクロ細孔はスリット形状を有し,Brunauer-Emmett-Teller比表面積は91m2/gに達することがわかった。脱着研究からBarret-Joyner-Halenda法によって計算した平均細孔径は3.83nmであり,細孔容積は0.28cm3/gであった。Data from the ScienceChina, LCAS. Translated by JST
シソーラス用語：
シソーラス用語/準シソーラス用語
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*ニッケルめっき

ニッケルめっき について

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ニッケル

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炭素材

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酸化物

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吸着平衡

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脱着

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体積

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細孔径

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グラフェン

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*無電解ニッケルめっき

無電解ニッケルめっき について

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Ni

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グラフェンシート

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グラフェンオキシド

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窒素吸着

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細孔容積

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分類 (1件)：
分類
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めっき一般 
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タイトルに関連する用語 (3件)：
タイトルに関連する用語
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無電解ニッケルめっき

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グラフェンシート

グラフェンシート について


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