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J-GLOBAL ID：201302269303549505   整理番号：13A1193212

原子的な薄膜のヘテロ構造における強い光-物質相互作用

Strong Light-Matter Interactions in Heterostructures of Atomically Thin Films

著者 (19件)： BRITNELL L. (Univ. Manchester, Manchester, GBR) ,  RIBEIRO R. M. (National Univ. Singapore, Singapore) ,  RIBEIRO R. M. (Universidade do Minho, Braga, PRT) ,  ECKMANN A. (Univ. Manchester, Manchester, GBR) ,  JALIL R. (Univ. Manchester, Manchester, GBR) ,  BELLE B. D. (Univ. Manchester, Manchester, GBR) ,  MISHCHENKO A. (Univ. Manchester, Manchester, GBR) ,  KIM Y.-J. (Univ. Manchester, Manchester, GBR) ,  KIM Y.-J. (Seoul National Univ., Seoul, KOR) ,  GORBACHEV R. V. (Univ. Manchester, Manchester, GBR) ,  GEORGIOU T. (Univ. Manchester, Manchester, GBR) ,  MOROZOV S. V. (Inst. Microelectronics Technol., Chernopolovka, RUS) ,  GRIGORENKO A. N. (Univ. Manchester, Manchester, GBR) ,  GEIM A. K. (Univ. Manchester, Manchester, GBR) ,  CASIRAGHI C. (Univ. Manchester, Manchester, GBR) ,  CASIRAGHI C. (Freie Univ., Berlin, RUS) ,  CASTRO NETO A. H. (National Univ. Singapore, Singapore) ,  CASTRO NETO A. H. (Boston Univ., MA, USA) ,  NOVOSELOV K. S. (Univ. Manchester, Manchester, GBR)
資料名： Science  (Science)
巻： 340  号： 6138  ページ： 1311-1314  発行年： 2013年06月14日 
JST資料番号： E0078A  ISSN： 0036-8075  CODEN： SCIEA  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

シソーラス用語： 低次元系 ,  *化合物半導体 ,  *硫化モリブデン ,  *タングステン化合物 ,  硫化物 ,  セレン化物 ,  素子構造 ,  半導体薄膜 ,  *単原子層 ,  電流電圧特性 ,  量子効率 ,  状態密度 ,  *光伝導
準シソーラス用語： セレン化タングステン ,  外部量子効率 ,  硫化タングステン ,  二次元系 ,  ヘテロ構造

分類 (2件)： 半導体薄膜  (BK14040E) ,  光伝導,光起電力  (BM03050J)

タイトルに関連する用語 (4件)： 原子 ,  薄膜 ,  ヘテロ構造 ,  光-物質相互作用