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J-GLOBAL ID：201302269339689613   整理番号：13A1424423

パルス紫外線レーザ照射下の速い酸化物核形成および成長のための有効アニール時間の普遍的な値

A universal value of effective annealing time for rapid oxide nucleation and growth under pulsed ultraviolet laser irradiation

著者 (3件)： NAKAJIMA Tomohiko (National Inst. Advanced Industrial Sci. and Technol., Ibaraki, JPN) ,  SHINODA Kentaro (National Inst. Advanced Industrial Sci. and Technol., Ibaraki, JPN) ,  TSUCHIYA Tetsuo (National Inst. Advanced Industrial Sci. and Technol., Ibaraki, JPN)
資料名： Physical Chemistry Chemical Physics  (Physical Chemistry Chemical Physics)
巻： 15  号： 34  ページ： 14384-14389  発行年： 2013年09月14日 
JST資料番号： A0271C  ISSN： 1463-9076  CODEN： PPCPFQ  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 光支援化学溶液析出法(PACSD)における非晶質酸化物膜の多結晶化の有効アニール時間(T_eff)をナノ秒パルスレーザ照射,すれすれ入射X線回折および時間分解抵抗測定法によって検討した。有機-金属析出法(MOD)およびエキシマレーザ支援MODによってガラス基板上に前駆体薄膜を調製し,空気中でアニールしてITO,TiO₂およびLa₂Zr₂O₇(LZO)の薄膜を形成させた後,パルス紫外線レーザを照射した。ペロブスカイト,ビクスバイアイト,アナターゼおよびパイロクロアへの核形成のT_effは60ナノ秒前後であることを示し,T_effの普遍性を考察した。

シソーラス用語： *核形成 ,  結晶成長 ,  酸化インジウムスズ ,  酸化チタン ,  ジルコニウム酸塩 ,  ランタン化合物 ,  *パルスレーザ ,  焼なまし ,  *溶液成長 ,  *薄膜
準シソーラス用語： ITO ,  アニール ,  ジルコニウム酸ランタン ,  化学溶液析出 ,  非晶質薄膜

分類 (3件)： 光化学一般  (CB08010U) ,  固-気界面一般  (CB12041H) ,  塩基,金属酸化物  (CD01030Z)

タイトルに関連する用語 (6件)： パルス ,  紫外線レーザ ,  酸化物 ,  核形成 ,  成長 ,  アニール