文献

J-GLOBAL ID：201302269849213630   整理番号：12A1165135

斜傾したNi原子衝撃によるPt(111)表面の低エネルギースパッタリングの分子動力学シミュレーション

Molecular dynamics simulation of low-energy sputtering of Pt (111)surface by oblique Ni atom bombardment

著者 (3件)： Yan Chao (Key Lab. of Nondestructive Testing of Ministry of Education,School of Measuring and Optical Engineering,Nanchang ...) ,  Duan JunHong (Key Lab. of Nondestructive Testing of Ministry of Education,School of Measuring and Optical Engineering,Nanchang ...) ,  He XingDao (Key Lab. of Nondestructive Testing of Ministry of Education,School of Measuring and Optical Engineering,Nanchang ...)
資料名： Wuli Xuebao  (Wuli Xuebao)
巻： 60  号： 8  ページ： 088301-1-088301-8  発行年： 2011年 
JST資料番号： B0628A  ISSN： 1000-3290  CODEN： WLHPA  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 中国 (CHN)  言語： 中国語 (ZH)

抄録/ポイント： 0°~80°(表面に対する垂直方向に関して)の範囲の入射角のNi原子によるPt(111)表面への低エネルギースパッタリングを,分子動力学シミュレーションによって研究した。埋込み原子法で得られた原子相互作用ポテンシャルをシミュレーションに用いた。入射角に対するスパッタ粒子のスパッタ率,エネルギーおよび角分布ならびにNi原子の付着係数の依存性を考察した。入射角θに対するスパッタ率の依存性は,θの3つの異なる領域,つまりθ≦20°,20°≦θ≦60°とθ≧60°に分けることができた。入射原子の付着係数と運動に基づき,斜傾した粒子衝撃の低エネルギースパッタリングの物理的メカニズムを提案した。入射角θが20°より小さいとき,標的原子による入射原子の反射が表面原子のスパッタリング過程を支配し,θ=0°の場合についてのスパッタリング機構に類似していた。一方,20°≦θ≦60°については,低エネルギースパッタリングにとって,入射原子の反射はもはや重要でなかった。θ≧60°での事例については,スパッタリングは発生しなかった。Data from the ScienceChina, LCAS. Translated by JST

シソーラス用語： *計算機シミュレーション ,  スパッタリング ,  エネルギー ,  ポテンシャル ,  密度汎関数法 ,  付着係数 ,  垂直方向
準シソーラス用語： *分子動力学シミュレーション ,  低エネルギー ,  相互作用ポテンシャル ,  埋込み原子法

分類 (1件)： 数理物理学  (BA03000W)

タイトルに関連する用語 (5件)： Ni ,  Pt ,  低エネルギー ,  スパッタリング ,  分子動力学シミュレーション