文献

J-GLOBAL ID：201302270843645935   整理番号：13A1026779

大気圧高温プラズマトーチによるポリ(ジメチルシロキサン)の表面改質を用いた高性能なガス分離膜の作製

Surface modification of poly(dimethylsiloxane) by atmospheric pressure high temperature plasma torch to prepare high-performance gas separation membranes

著者 (10件)： CHEN Jung-tsai (R&D Center for Membrane Technol. and Dep. of Chemical Engineering, Chung Yuan Univ., Chung-Li 32023, Taiwan) ,  FU Ywu-jang (Dep. of Biotechnology, Vanung Univ., Chung-Li 32023, Taiwan) ,  TUNG Kuo-lun (R&D Center for Membrane Technol. and Dep. of Chemical Engineering, Chung Yuan Univ., Chung-Li 32023, Taiwan) ,  TUNG Kuo-lun (Dep. of Chemical Engineering, National Taiwan Univ., #1, Sec. 4, Roosevelt Road, Taipei 106, Taiwan) ,  HUANG Shu-hsien (Dep. of Chemical and Materials Engineering, National Ilan Univ., I-Lan 26047, Taiwan) ,  HUNG Wei-song (R&D Center for Membrane Technol. and Dep. of Chemical Engineering, Chung Yuan Univ., Chung-Li 32023, Taiwan) ,  JESSIE LUE Shingjiang (Dep. of Chemical and Materials Engineering and Pollution Prevention Group in Green Technol. Res. Center, Chang Gung ...) ,  HU Chien-chieh (R&D Center for Membrane Technol. and Dep. of Chemical Engineering, Chung Yuan Univ., Chung-Li 32023, Taiwan) ,  LEE Kueir-rarn (R&D Center for Membrane Technol. and Dep. of Chemical Engineering, Chung Yuan Univ., Chung-Li 32023, Taiwan) ,  LAI Juin-yih (R&D Center for Membrane Technol. and Dep. of Chemical Engineering, Chung Yuan Univ., Chung-Li 32023, Taiwan)
資料名： Journal of Membrane Science  (Journal of Membrane Science)
巻： 440  ページ： 1-8  発行年： 2013年08月01日 
JST資料番号： E0669A  ISSN： 0376-7388  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 本研究では,大気圧高温プラズマトーチ(APHTPT)を用いてポリ(ジメチルシロキサン)(PDMS)膜を修飾し,その膜表面に薄SiO_xを形成した。PDMSおよびAPHTPT処理膜の化学的性質,ならびにポリシロキサンの転換をX線光電子分光法(XPS)およびエネルギー分散型X線(EDX)微量分析によって決定した。深さ関数として膜の微細構造を可変モノエネルギー低速陽電子ビーム(VMSPB)分光法で得た。XPSおよびEDXの結果から,ポリシロキサンからシリカへの転換がプラズマパワー増加で支持されることを示した。VMSPBデータでは,処理した膜が非対称性有機無機ハイブリッド構造であることを実証した。処理した膜の分析に基づいて,自由体積サイズは深さとともに増加し,二項分布を示した。O₂,N₂およびCO₂のガス透過特性を試験した。Copyright 2013 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： *ガス分離 ,  表面改質 ,  *ポリジメチルシロキサン ,  熱プラズマ ,  微細構造 ,  プラズマトーチ ,  *高分子分離膜 ,  酸素 ,  窒素 ,  二酸化炭素 ,  X線光電子分光法 ,  エネルギー分散蛍光X線分析 ,  陽電子ビーム ,  二酸化ケイ素
準シソーラス用語： シリカ ,  高温プラズマ

分類 (2件)： 膜分離  (XD02120Z) ,  高分子固体のその他の性質  (CG02025L)

タイトルに関連する用語 (6件)： 大気圧 ,  高温プラズマ ,  トーチ ,  表面改質 ,  分離膜 ,  作製