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J-GLOBAL ID:201302270964052850   整理番号:13A1234754

表面開始原子移動ラジカル重合によるクロロメチル化ポリスチレンビーズに基づく新しいキレート樹脂の合成及び吸着特性

Preparation and Adsorption Properties of New Chelating Resin Based on Chloromethylated Polystyrene Beads via Surface-initiated Atom Transfer Radical Polymerization
著者 (3件):
資料名:
巻: 33  号: 11  ページ: 2579-2584  発行年: 2012年 
JST資料番号: C2116A  ISSN: 0251-0790  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: 中国 (CHN)  言語: 中国語 (ZH)
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新しいキレート樹脂を,表面開始原子移動ラジカル重合(SI-ATRP)によるクロロメチル化ポリスチレンビーズへのポリ(グリシジルメタアクリラート)(PGMA)のグラフト化と,次いでのグラフトしたPGMAに於けるイミノ二酢酸(IDA)を用いるエポキシ基の反応を経由して合成した。キレート樹脂の構造を,Fourier変換赤外分光法,元素分析,表面積および空隙率分析器を用いて特性化した。重合時間が増加すると,GMAのグラフト収率,IDA結合量及びNi(II),Cu(II)及びPb(II)の吸着能力が増加した。重合時間が18hの場合には,Ni(II),Cu(II)及びPb(II)の最大収着能力はそれぞれ1.29,1.19及び0.83mmol/gで,それらは文献の同じタイプの吸着剤よりも高かった。それらの結果,ATRPは,制御された高い吸着能力を有するキレート樹脂を合成するための実行可能な方法であることが判明した。Data from the ScienceChina, LCAS. Translated by JST
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分類 (1件):
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高分子化学一般 
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