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J-GLOBAL ID：201302271009072940   整理番号：13A0072614

低エネルギーAr⁺イオン注入によるWO₃の光学的およびガス感度特性の適合化

Tailoring of optical and gas sensitivity behaviors of WO₃ films by low energy Ar⁺ ion implantation

著者 (3件)： KESHRI Sunita (Dep. of Applied Physics, Birla Inst. of Technol., Mesra, Ranchi-835215, Jharkhand, IND) ,  KUMAR Ashutosh (Dep. of Applied Physics, Birla Inst. of Technol., Mesra, Ranchi-835215, Jharkhand, IND) ,  KABIRAJ Debdulal (Inter Univ. Accelerator Centre, New Delhi-110067, IND)
資料名： Thin Solid Films  (Thin Solid Films)
巻： 526  ページ： 50-58  発行年： 2012年12月30日 
JST資料番号： B0899A  ISSN： 0040-6090  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 本論文において,著者らは100keV Ar⁺イオンによって注入したWO₃の構造的,光学的およびガス感度特性について報告した。3×10¹⁵から1×10¹⁷cm^-2へのフルエンスにおける増加とともに2.90から3.49eVへの光学バンドギャップにおける増加が観察された。注入は膜の光ルミネセンス収率における増加を引き起こすことも観察された。どの膜も,殊に注入膜は,メタン環境において良好なガス感度特性を示した。1×10¹⁶cm^-2の臨界フルエンス値による膜は,良好な光学的ならびにガス感度特性を示し,このことから良い素子応用を持つ可能性がある。Copyright 2013 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： *イオン注入 ,  アルゴン ,  *酸化タングステン ,  酸化物 ,  薄膜 ,  欠陥 ,  光ルミネセンス ,  ガスセンサ ,  イオン ,  フルエンス ,  光学ギャップ ,  感度 ,  真空蒸着 ,  基板 ,  ウエハ【IC】 ,  膜構造 ,  X線回折 ,  走査電子顕微鏡 ,  Raman分光法 ,  透過率 ,  反射率 ,  振動モード ,  特性 ,  *光学的性質 ,  吸収係数 ,  アルカン
準シソーラス用語： Raman分光 ,  SEM【顕微鏡】 ,  ガス感度 ,  ガラス基板 ,  シリコン基板 ,  光学バンドギャップ ,  光吸収係数 ,  *三酸化タングステン ,  酸化物薄膜 ,  振動特性 ,  低エネルギーイオン ,  熱蒸着 ,  分光透過率 ,  分光反射率

分類 (2件)： 酸化物薄膜  (BK14050P) ,  半導体の放射線による構造と物性の変化  (BK16123E)

物質索引 (1件)： メタン

タイトルに関連する用語 (4件)： 低エネルギー ,  イオン注入 ,  光学 ,  感度特性