SOMプロセスを用いるTa_2O_5の還元に及ぼすカソード構造の影響

Chen Chaoyi; Lu Xionggang; Li Junqi; Pu Rui; Yang Fan

文献

J-GLOBAL ID：201302271244810142 整理番号：13A0933278

SOMプロセスを用いるTa_2O_5の還元に及ぼすカソード構造の影響

Effect of Cathode Structure on Reduction of Ta_2O_5 Using SOM Process

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資料名：
巻： 41 号： 3 ページ： 522-526 発行年： 2012年
JST資料番号： W0563A ISSN： 1002-185X CODEN： XJCGEA 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：原著論文発行国：中国 (CHN) 言語：中国語 (ZH)

溶融融剤CaCl2系内で,直接,Ta_2O_5から,固体酸素イオン膜(SOM)プロセスによって,タンタルを調製した。異なる圧力で調製して,異なる温度で焼結したTa_2O_5ペレットの微細構造特徴および空隙率を調査し,次に,生成物形態および酸素含有量に及ぼすカソード微細構造の影響規則を得た。その結果,カソードペレットの粒度および空隙率は,電気化学還元プロセスに対する重要因子であった。圧力および焼結温度の上昇につれて,Ta_2O_5ペレットの空隙率は,著しく減少した。高い空隙率は,脱酸素速度を高め,そして,大粒子生成物を得ることができ,一方,低い空隙率では,金属タンタルの緻密外部層が形成した。Ta_2O_5ペレットを,4MPaで圧縮して,2時間1150°Cで焼結したとき,あるいは,6MPaで圧縮して,2時間1100°Cで焼結したとき,電解反応活性は良好であり,そして,電解生成物は,低い酸素含有量を持った。Data from the ScienceChina, LCAS. Translated by JST

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酸化,還元

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