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J-GLOBAL ID：201302271785549404   整理番号：13A0665786

ナノシード粒子を応用した高密度薄膜の作製

Preparation of height density films applied nanoparticles

著者 (3件)： 岩坪聡 (富山県工技セ) ,  小幡勤 (富山県工技セ) ,  川堰宣隆 (富山県工技セ)
資料名： 富山県工業技術センター研究報告  (Report of the Toyama Industrial Technology Center)
号： 25  ページ： 39-40  発行年： 2011年07月29日 
JST資料番号： X0426B  ISSN： 0914-2207  資料種別： 逐次刊行物 (A)
発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

タイトルに関連する用語 (5件)： シード粒子 ,  応用 ,  高密度 ,  薄膜 ,  作製