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J-GLOBAL ID：201302273336301328   整理番号：13A0344821

溶融-急冷法により作製した,ホウ酸塩やリン酸塩ガラス基板上に化学的にスプレーしたCdO膜のキャラクタリゼーション

Characterization of chemically sprayed CdO films on borate and phosphate glass substrates produced by melt-quenching technique

著者 (4件)： CETINKAYA COLAK S. (Eskisehir Osmangazi Univ., Dep. of Physics, 26480 Eskisehir, TUR) ,  ERDOGAN B. (Eskisehir Osmangazi Univ., Graduate School of Sci., 26480 Eskisehir, TUR) ,  AKYUZ I. (Eskisehir Osmangazi Univ., Dep. of Physics, 26480 Eskisehir, TUR) ,  ATAY F. (Eskisehir Osmangazi Univ., Dep. of Physics, 26480 Eskisehir, TUR)
資料名： Materials Chemistry and Physics  (Materials Chemistry and Physics)
巻： 138  号： 1  ページ： 327-332  発行年： 2013年02月15日 
JST資料番号： E0934A  ISSN： 0254-0584  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 薄膜堆積に用いる基板の特性は,薄膜作製における重要なパラメーターである。本検討では,市販の基板を用いる代わりに,CdO膜のための基板として用いるために,古典的溶融-急冷法によってホウ酸塩やリン酸塩ガラスを得た。また,他のガラス基板によるコーティング特性を比較するために,顕微鏡ガラススライドを用いた。全ての膜は超音波スプレー熱分解法により作製した。基板温度は275±5°Cを選んだ。厚みや,屈折率や消散係数のような光学パラメータは分光偏光解析法により決定した。吸収や透過スペクトルはUV/vis分光計により測定した。膜の電気抵抗値を決定するために4プローブ法を用いた。XRD検討から,基板のタイプがCdO膜の性質に劇的に影響を及ぼすことが分った。リン酸塩ガラス基板上に堆積したCdO膜が最も優れた構造的品質を有する。膜の表面特性や粗さ値を検討するために,原子間力顕微鏡を用いた。Copyright 2013 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： *ホウ酸塩 ,  *リン酸塩 ,  熱分解 ,  係数 ,  光学定数 ,  偏光解析法 ,  融解 ,  急冷 ,  *基板 ,  *電気装置部品 ,  飛沫 ,  *酸化カドミウム ,  薄膜 ,  屈折率 ,  電気抵抗 ,  表面性状 ,  表面粗さ ,  紫外可視吸収スペクトル ,  基板温度 ,  温度依存性 ,  原子間力顕微鏡 ,  X線回折
準シソーラス用語： *ガラス基板 ,  消散係数 ,  超音波スプレー熱分解 ,  超音波スプレー熱分解法 ,  分光偏光解析法

分類 (2件)： 塩基,金属酸化物  (CD01030Z) ,  酸化物薄膜  (BK14050P)

タイトルに関連する用語 (9件)： 溶融 ,  作製 ,  ホウ酸塩 ,  リン酸塩 ,  ガラス基板 ,  化学 ,  スプレー ,  CdO ,  キャラクタリゼーション