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J-GLOBAL ID：201302274348189635   整理番号：13A1259387

ファンデルワールスヘテロ構造

Van der Waals heterostructures

著者 (2件)： GEIM A. K. (Univ. Manchester, Manchester, GBR) ,  GRIGORIEVA I. V. (Univ. Manchester, Manchester, GBR)
資料名： Nature (London)  (Nature (London))
巻： 499  号： 7459  ページ： 419-425  発行年： 2013年07月25日 
JST資料番号： D0193B  ISSN： 0028-0836  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： グラフェンその他の二次元原子結晶の研究が盛んに行われており,この研究は長年にわたって物性物理学と材料科学の主要な研究テーマの1つであり続ける可能性が高い。この分野の外に目を向けると,個々の原子面を正確に選んだ順序で積み上げて,層ごとに設計したデザイナーヘテロ構造を作ることもできる。最初のそのようなヘテロ構造(しばしば「ファンデルワールス」と呼ばれる)としてすでに著しく複雑なものが,最近作製され研究されており,特異な特性と新しい現象が明らかになっている。本論文では,この新たな研究分野を概説し,可能な将来の方向を見いだす。製造技術が着実に改善され,グラフェンを跳躍台として使えば,ファンデルワールスヘテロ構造は,独自の大きい分野へ発展するだろう。Copyright Nature Publishing Group 2013

シソーラス用語： *炭素材 ,  *単原子層 ,  *素子構造 ,  van der Waals力 ,  二次元 ,  結晶 ,  *グラフェン
準シソーラス用語： *ヘテロ構造 ,  ファンデルワールスヘテロ構造 ,  原子結晶

分類 (2件)： 半導体薄膜  (BK14040E) ,  半導体結晶の電子構造  (BM02060N)