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J-GLOBAL ID：201302274587971256   整理番号：13A0539605

超連続光を採用した光ファイバー型低コヒーレンス干渉計を用いたSi基板の温度測定

Temperature Measurement of Si Substrate Using Optical-Fiber-Type Low-Coherence Interferometry Employing Supercontinuum Light

著者 (6件)： HIRAOKA Takehiro (Nagoya Univ., Nagoya, JPN) ,  OHTA Takayuki (Meijo Univ., Nagoya, JPN) ,  KAGEYAMA Tetsunori (Wakayama Univ., Wakayama, JPN) ,  ITO Masafumi (Meijo Univ., Nagoya, JPN) ,  NISHIZAWA Norihiko (Nagoya Univ., Nagoya, JPN) ,  HORI Masaru (Nagoya Univ., Nagoya, JPN)
資料名： Japanese Journal of Applied Physics  (Japanese Journal of Applied Physics)
巻： 52  号： 2  ページ： 026602.1-026602.6  発行年： 2013年02月25日 
JST資料番号： G0520B  ISSN： 0021-4922  CODEN： JJAPB6  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 温度測定の精度及び層の最小測定可能厚さは,低コヒーレンス干渉法における媒質の光学パス長さの最大分解能によって決定され,光源のスペクトルプロファイル及び波長に依存する。超短レーザパルス及び光ファイバーを用いて生成された低ノイズ,超平坦,高コヒーレントSCを,光源として使った。Si基板上のSCの波長分散は,参照ミラーとしてシリコンミラーを用いて補償され,Si基板の前面及び後面で従来の低コヒーレント光源として使われる超ルミネセントダイオード(SLD)光のSCより,鋭い干渉波形を生成した。SCを用いて,温度の測定精度は,SLDを使う場合の±1.0°Cからの±0.4°Cに向上した。Si基板及びSiO2薄膜の温度は,厚さ8.55μmのSiO₂薄膜持つ,厚さ800μmのSi基板上でSCを用いて同時に測定された。厚さ4-6μmの薄膜の温度は,SC及びシリコン参照ミラーを用いた波長分散の補償技術により測定された。(翻訳著者抄録)

シソーラス用語： *温度測定 ,  *干渉計 ,  *ウエハ【IC】 ,  ケイ素 ,  レーザパルス ,  光ファイバ ,  発光ダイオード ,  二酸化ケイ素 ,  薄膜 ,  波動
準シソーラス用語： Si基板 ,  スーパールミネセントダイオード ,  干渉波

分類 (3件)： 干渉測定と干渉計  (BD07070G) ,  温度測定,温度計  (AD06010K) ,  固体デバイス計測・試験・信頼性  (NC03040G)

引用文献 (24件)：

• 1) H. Abe, M. Yoneda, and N. Fujiwara: Jpn. J. Appl. Phys. 47 (2008) 1435.
• 2) T. Ohiwa, K. Horioka, T. Aricado, I. Hasegawa, and H. Okano: Jpn. J. Appl. Phys. 31 (1992) 405.
• 3) M. Hori, H. Kuroda, M. Ito, T. Ohta, K. Takeda, and M. Sekine: Proc. 19th Int. Symp. Plasma Chemistry, 2009, p. 06.1.
• 4) H. Yamamoto, H. Kuroda, M. Ito, T. Ohta, K. Takeda, K. Ishikawa, H. Kondo, M. Sekine, and M. Hori: Jpn. J. Appl. Phys. 51 (2012) 016202.
• 5) H. Sugai, K. Nakamura, Y. Hikosaka, and M. Nakamura: J. Vac. Sci. Technol. A 13 (1995) 887.

タイトルに関連する用語 (6件)： 採用 ,  光ファイバー ,  コヒーレンス ,  干渉計 ,  Si基板 ,  温度測定