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J-GLOBAL ID：201302275810454923   整理番号：13A0645005

PMMA/グラフェンオキシド自己集合複合粒子の簡便な作製とその電気応答特性

Facile fabrication of self-assembled PMMA/graphene oxide composite particles and their electroresponsive properties

著者 (4件)： ZHANG Ke (Inha Univ., Dep. of Polymer Sci. and Engineering, 402-751, Incheon, KOR) ,  ZHANG Ke (School of Chemical Engineering and Technol., Harbin Inst. of Technol., 150001, Harbin, CHN) ,  ZHANG Wen Ling (Inha Univ., Dep. of Polymer Sci. and Engineering, 402-751, Incheon, KOR) ,  CHOI Hyoung Jin (Inha Univ., Dep. of Polymer Sci. and Engineering, 402-751, Incheon, KOR)
資料名： Colloid and Polymer Science  (Colloid and Polymer Science)
巻： 291  号： 4  ページ： 955-962  発行年： 2013年04月 
JST資料番号： C0415A  ISSN： 0303-402X  CODEN： CPMSB  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： ドイツ (DEU)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： コア-シェル構造化ポリ(メタクリル酸メチル)(PMMA)/グラフェンオキシド(GO)複合粒子を,簡便なプロセスで調製した。この方法では,超音波照射下,両親媒性GOにより脱イオン水(DI)中に疎水性PMMAミクロスフェアを分散させたとき,ミクロスフェア表面にGOが自発的に吸着した。作製された複合材料をSEM,TEM,FT-IR,および熱重量分析で解析評価した。結果は,界面活性剤無しに,粒子表面がGOで覆われたことを示した。さらに,電界印加下で,PMMA/GO複合粒子の連鎖形成プロセスの電気レオロジー(ER)挙動が,光学顕微鏡により観察された。印加した電界強度に関係したずり応力およびずり粘性が,回転型レオメータを用いて観測された。全てのずり速度範囲にわたるそのER挙動を記述するために,提案されたCho-Choi-Jhonモデルを用いた。さらに固定したずり速度における,直交印加電圧に対するずり応力の応答も調べた。Copyright 2012 Springer-Verlag Berlin Heidelberg Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： *ポリメタクリル酸メチル ,  酸化物 ,  *炭素材 ,  微粒子 ,  剪断応力 ,  ずり粘度 ,  レオメータ ,  剪断速度 ,  電界強度 ,  超音波照射 ,  多層 ,  *ミクロスフェア ,  *ER流体 ,  *自己集合 ,  コアシェル構造
準シソーラス用語： PMMA ,  *グラフェンオキシド ,  複合粒子

分類 (1件)： 高分子溶液の物理的性質  (CG02013S)

タイトルに関連する用語 (6件)： PMMA ,  グラフェンオキシド ,  自己集合 ,  複合粒子 ,  作製 ,  応答特性