文献

J-GLOBAL ID：201302275908364213   整理番号：13A0636860

引き上げ速度によるメソポーラスシリカSBA-15薄膜の構造制御

著者 (4件)： 庄司直子 (東大 大学院) ,  HWANG Junho (東大 大学院) ,  中山大輔 (東大 大学院) ,  大宮司啓文 (東大)
資料名： 日本機械学会熱工学コンファレンス講演論文集  (Proceedings of Thermal Engineering Conference)
巻： 2012  ページ： 55-56  発行年： 2012年11月16日 
JST資料番号： L0417A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 2D-hexagonal構造のメソポーラスシリカSBA-15薄膜をディップコーティング法によりシリコン基板上に製膜する。このとき,引き上げ速度を変化させると,メソポーラスシリカSBA-15薄膜の膜厚のみならず,細孔径,細孔間隔などの細孔構造も変化することがわかった。引き上げ速度を速くすると,膜厚は増加し,一方,引き上げ速度をキャピラリー力により溶液が乾燥した製膜面を上昇するような領域まで遅くすると,膜厚は同様に増加する。細孔径,細孔間隔は,膜厚が厚いほど減少することがわかった。(著者抄録)

シソーラス用語： 多孔質体 ,  *薄膜成長 ,  制御 ,  速度制御 ,  速度 ,  *細孔構造 ,  *二酸化ケイ素
準シソーラス用語： *シリカ ,  引き上げ速度 ,  構造制御 ,  多孔質シリカ

分類 (1件)： 薄膜成長技術・装置  (BK14020I)

タイトルに関連する用語 (5件)： 引き上げ速度 ,  メソポーラスシリカ ,  SBA-15 ,  薄膜 ,  構造制御