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J-GLOBAL ID：201302276376663000   整理番号：13A0230457

ジエチル亜鉛ベース溶液の部分水解岩を使った回転塗布ZnO皮膜の低温生成とUV処理

Low Temperature Fabrication and UV Treatment of Spin Coated ZnO Films Using Partial Hydrolyzate of Diethylzinc Based Solutions

著者 (7件)： HAGA Kenichi (Tosoh Finechem Corp., Yamaguchi, JPN) ,  INABA Koichiro (Tosoh Finechem Corp., Yamaguchi, JPN) ,  TOYOTA Kouji (Tosoh Finechem Corp., Yamaguchi, JPN) ,  TAKEMOTO Yujin (Tosoh Finechem Corp., Yamaguchi, JPN) ,  TOKUDOME Kouichi (Tosoh Finechem Corp., Yamaguchi, JPN) ,  OSHIMA Minoru (Univ. Miyazaki, Miyazaki, JPN) ,  YOSHINO Kenji (Univ. Miyazaki, Miyazaki, JPN)
資料名： Proceedings of the International Display Workshops  (Proceedings of the International Display Workshops)
巻： 19th  号： Day 1-2  ページ： 543-546  発行年： 2012年12月03日 
JST資料番号： L4269A  ISSN： 1883-2490  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

シソーラス用語： *透明導電膜 ,  *紫外線照射 ,  スピンコーティング
準シソーラス用語： *ZnO薄膜 ,  回転塗布

分類 (1件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

物質索引 (1件)： ジエチル亜鉛

タイトルに関連する用語 (8件)： ジエチル亜鉛 ,  溶液 ,  水解 ,  岩 ,  回転塗布 ,  ZnO ,  皮膜 ,  低温生成