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J-GLOBAL ID：201302276393467835   整理番号：13A0150272

塗料中における超微粒子シリカとポリ(アミド-アミン)の相互作用及び複合体の分散性

Interaction mechanism of ultrafine silica and poly(amido-amine) and dispersibility of the complexes in coatings

著者 (2件)： JIN Tao (Coll. of Material Sci. and Engineering, Shandong Univ. of Sci. and Technol., Qingdao 266590, CHN) ,  ZHANG Fen (Coll. of Material Sci. and Engineering, Shandong Univ. of Sci. and Technol., Qingdao 266590, CHN)
資料名： Progress in Organic Coatings  (Progress in Organic Coatings)
巻： 76  号： 2-3  ページ： 447-458  発行年： 2013年02月 
JST資料番号： A0541C  ISSN： 0300-9440  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 塗料中における分散性を向上させるために超微粒子二酸化ケイ素を-NH₂末端ポリ(アミド-アミン)(PAMAM)デンドリマによって改質した。ナノSiO₂とPAMAMの複合材料を分析し,改質機構を気相中においてUB3LYP/6-31+G(d)及びHF/6-31G基底関数系を用いた密度関数理論(DFT)によって解析した。それによって2種の安定な配座異性体:タイプA(≡Si⁺がアミンサイトに結合)及びタイプC(≡Si⁺がアミドサイトに結合)が得られた。これらはそれぞれSi-N及びSi-O化学結合生成によるものであった。電子密度分布はアミドO,アミンNなどの活性結合領域の存在を示した。最小エネルギー配座異性体の赤外スペクトルを詳しく解析し,入手された実験データと比較した。Copyright 2013 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： *塗料 ,  *顔料 ,  超微粒子 ,  ナノ粒子 ,  アミン ,  カルボニル化合物 ,  基 ,  *アミノ基 ,  デンドリマ ,  *相互作用 ,  *複合体 ,  分散度 ,  ポリアミドアミン ,  基底関数系 ,  密度汎関数法 ,  化学結合 ,  ケイ素 ,  窒素 ,  立体異性体 ,  密度分布 ,  励起状態
準シソーラス用語： PAMAMデンドリマ ,  Si-N結合 ,  Si-O結合 ,  *アミド基 ,  *ナノシリカ ,  電子密度分布 ,  配座異性体 ,  *分散性 ,  密度関数理論

分類 (4件)： 塗料の性質  (YJ03020Q) ,  顔料  (YJ03030B) ,  コロイド化学一般  (CB11010C) ,  高分子の物性一般  (CG02001Z)

タイトルに関連する用語 (7件)： 塗料 ,  微粒子シリカ ,  アミド ,  アミン ,  相互作用 ,  複合体 ,  分散性