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J-GLOBAL ID：201302276607614016   整理番号：13A0048378

高周波超伝導キャビティへの応用を目指したNbN薄膜

NbN thin films for superconducting radio frequency cavities

著者 (6件)： ROACH W M (Coll. of William and Mary, VA, USA) ,  SKUZA J R (National Inst. of Aerospace, VA, USA) ,  BERINGER D B (Coll. of William and Mary, VA, USA) ,  LI Z (Coll. of William and Mary, VA, USA) ,  CLAVERO C (Coll. of William and Mary, VA, USA) ,  LUKASZEW R A (Coll. of William and Mary, VA, USA)
資料名： Superconductor Science and Technology  (Superconductor Science and Technology)
巻： 25  号： 12  ページ： 125016,1-6  発行年： 2012年12月 
JST資料番号： T0607A  ISSN： 0953-2048  CODEN： SUSTEF  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： NbN薄膜の高周波超伝導キャビティへの応用について報告する。粒子加速器に組み込まれているバルクのニオブを基本とした技術における50MVm^-1という基本的な電場勾配制限を克服するために,NbN薄膜を高周波キャビティに組み込む可能性を議論する。NbN薄膜はバルクのニオブより大きい臨界電場を有することに加えて,より少ない損失につながる滑らかな表面を持つので,キャビティの性能向上には最適であると考えられる。本研究では,NbN薄膜の成膜パラメータ,表面形態,微細構造,輸送特性および超伝導特性の間の相関を明らかにする。バルク状の格子定数と超伝導転移温度を有する膜を実際に作製することができた。これらのNbN膜は,厚さが同程度で,同じ様に成長させたニオブ薄膜よりも表面が可成り滑らかであることが分かった。加速器のキャビティーへのNbN薄膜の応用の可能性を詳細に議論する。

シソーラス用語： *超伝導空洞 ,  *ニオブ化合物 ,  *窒化物 ,  電場勾配 ,  損失 ,  超伝導体 ,  形態 ,  微細構造 ,  格子定数 ,  相転移 ,  超伝導 ,  転移温度
準シソーラス用語： *窒化ニオブ ,  超伝導転移 ,  表面形態 ,  臨界電場

分類 (1件)： その他の超伝導応用装置  (BM04044V)

タイトルに関連する用語 (6件)： 高周波 ,  超伝導 ,  キャビティ ,  応用 ,  NbN ,  薄膜