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J-GLOBAL ID:201302277669775020   整理番号:13A1465128

シクロデキストリン絶縁が単一分子レベルでの共役ポリマ蛍光の静的消光を防止する

Cyclodextrin Insulation Prevents Static Quenching of Conjugated Polymer Fluorescence at the Single Molecule Level
著者 (7件):
資料名:
巻:号: 15  ページ: 2619-2627  発行年: 2013年08月12日 
JST資料番号: W2348A  ISSN: 1613-6810  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: ドイツ (DEU)  言語: 英語 (EN)
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蛍光イメージングのために共役ポリマ(CP)は有望な材料であるが,固体状態ホスト分子であるCP単一分子で励起される蛍光輝度が異常に低いことが起こる。ホストポリマ(PMMA)マトリクス(100nm厚み)中に埋め込まれた短いポリ[フルオレンビス(ビニレンフェニレン)](PFBF)をシクロデキストリンで絶縁(ロタキサン形成)したPFBV-Rtxの使用により蛍光の静的消光を防止できた。DCM溶液中のPFBV-RtxとPFBVの蛍光量子収量(Φ)はいずれも0.7であるが,PMMA中に極低濃度で分散したときのΦは溶液中と同じだがPFBVのΦは0.15と1/4に低下した。PFBV-Rtxのシクロデキストリン環がホストポリマからCP骨格に及ぼす機械的力の緩衝材となりCPの自由なコンフォメーションを保持するためと考えた。
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分類 (4件):
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高分子固体の物理的性質  ,  分子化合物  ,  シクロファン,カテナン,ロタキサン,カリキサレン,ノット(三つ葉結び目)  ,  有機化合物のルミネセンス 
タイトルに関連する用語 (5件):
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