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J-GLOBAL ID：201302279139869523   整理番号：13A0248225

重合ヘキサノアトアルミニウム錯体の真空UV照射を経た酸化アルミニウム層の光化学的調製

Photochemical preparation of aluminium oxide layers via vacuum ultraviolet irradiation of a polymeric hexanoato aluminium complex

著者 (9件)： WENNRICH L. (Leibniz-Institut fuer Oberflaechenmodifizierung e. V., Permoserstrasse 15, D-04318 Leipzig, DEU) ,  KHALIL H. (Al-Azhar Univ., Fac. of Sci., Chem. Dept., P.O. Box 11884, Cairo, Egypt) ,  BUNDESMANN C. (Leibniz-Institut fuer Oberflaechenmodifizierung e. V., Permoserstrasse 15, D-04318 Leipzig, DEU) ,  DECKER U. (Leibniz-Institut fuer Oberflaechenmodifizierung e. V., Permoserstrasse 15, D-04318 Leipzig, DEU) ,  GERLACH J.w. (Leibniz-Institut fuer Oberflaechenmodifizierung e. V., Permoserstrasse 15, D-04318 Leipzig, DEU) ,  HELMSTEDT U. (Leibniz-Institut fuer Oberflaechenmodifizierung e. V., Permoserstrasse 15, D-04318 Leipzig, DEU) ,  MANOVA D. (Leibniz-Institut fuer Oberflaechenmodifizierung e. V., Permoserstrasse 15, D-04318 Leipzig, DEU) ,  NAUMOV S. (Leibniz-Institut fuer Oberflaechenmodifizierung e. V., Permoserstrasse 15, D-04318 Leipzig, DEU) ,  PRAGER L. (Leibniz-Institut fuer Oberflaechenmodifizierung e. V., Permoserstrasse 15, D-04318 Leipzig, DEU)
資料名： Materials Chemistry and Physics  (Materials Chemistry and Physics)
巻： 137  号： 3  ページ： 1046-1052  発行年： 2013年01月15日 
JST資料番号： E0934A  ISSN： 0254-0584  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 薄層重合ヘキサノアトアルミニウム錯体を前駆体として光化学的に変換し,薄層酸化アルミニウムをシリコンウエハ上に調製した。前駆化合物を合成し,NMR,FTIR,XPS,ICPのような数種の分析法で特性を明らかにし,重合アルミニウム含有配位化合物であることを示した,そして,ペンダントヘキサノイル側鎖を持つヒドロキソ架橋アルミニウム鎖であることを提示しこれはカテナ-ポリ[{ジ(κ-O,O-ヘキサノアト)アルミニウム}(μ-ヒドロキソ)](PHAH)として確認できた。PHAHトルエン溶液からシリコンウエハに蒸着した薄層にキセノンエキシマーランプからの真空紫外放射を用いて照射を行った。層についてはXPS,XRD,XRR,および分光学的偏光解析で特性を明らかにした。放射露光量E=36Jcm^-2の真空紫外放射はほぼ炭素のないアモルファス層を形成し,その組成は約2.1gcm^-3の密度を持つアルミナの組成に近かった。ゾルゲル法に加えて,普通の温度や圧力で薄い平らな金属酸化物層を生成するための代替法として,このように,重合アルミニウム錯体の例を用いて,金属錯体を酸化物へと光化学変換する可能性を示すことができた。Copyright 2013 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： *アルミニウム錯体 ,  真空紫外線 ,  紫外線照射 ,  *酸化アルミニウム ,  前駆体 ,  *蒸着膜 ,  ヒドロキソ錯体 ,  橋架け錯体 ,  X線光電子スペクトル ,  X線回折 ,  赤外吸収スペクトル ,  X線反射 ,  非晶質 ,  ゾル-ゲル法 ,  脂肪酸
準シソーラス用語： 配位重合体 ,  FTIRスペクトル

分類 (2件)： 酸化物薄膜  (BK14050P) ,  非遷移金属元素の錯体  (CE01030C)

物質索引 (1件)： ヘキサン酸

タイトルに関連する用語 (7件)： 重合 ,  錯体 ,  真空 ,  UV照射 ,  酸化アルミニウム層 ,  光化学 ,  調製