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J-GLOBAL ID：201302279397919268   整理番号：13A1052766

有機ケイ酸塩ガラスの弾性率に及ぼす細孔トポロジーの影響

The effect of the pore topology on the elastic modulus of organosilicate glasses

著者 (12件)： YEAP Kong-Boon (Fraunhofer Inst. Nondestructive Testing, Dresden, DEU) ,  KOPYCINSKA-MUELLER Malgorzata (Fraunhofer Inst. Nondestructive Testing, Dresden, DEU) ,  KOPYCINSKA-MUELLER Malgorzata (Dresden Univ. Technol., Dresden, DEU) ,  CHEN Lei (Queensland Univ. Technol., Queensland, AUS) ,  CHEN Yu (National Univ. Singapore, Singapore) ,  JUNGMANN Marco (Martin Luther Univ. Halle, Halle, DEU) ,  KRAUSE-REHBERG Reinhard (Martin Luther Univ. Halle, Halle, DEU) ,  MAHAJAN Sukesh (SBA Materials, Inc., New Mexico) ,  VLASSAK Joost (Harvard Univ., Massachusetts) ,  GALL Martin (Fraunhofer Inst. Nondestructive Testing, Dresden, DEU) ,  ZSCHECH Ehrenfried (Fraunhofer Inst. Nondestructive Testing, Dresden, DEU) ,  ZSCHECH Ehrenfried (Dresden Univ. Technol., Dresden, DEU)
資料名： Journal of Materials Research  (Journal of Materials Research)
巻： 28  号： 9  ページ： 1262-1268  発行年： 2013年05月14日 
JST資料番号： D0987B  ISSN： 0884-2914  CODEN： JMREEE  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 有機ケイ酸塩ガラス(OSG)の細孔孔トポロジーの最適化が,非常に低いk値と比較的高いYoung率を持つ誘電体の開発に重要である。本論文では,有限要素モデリング方策を,多孔質OSG薄膜の空隙率,細孔トポロジーと弾性係数の関係の一般的理解を向上するために,適用した。ナノインデンテーション(NI)調査からの実験弾性係数データと結合したこの関係を,種々のOSG膜の細孔構造の予測に使用した。更に,陽電子消滅分光(PAS)測定を,非重複から重複細孔構造への移行の閾値空隙率を決定するため行った。シミュレーションと実験からの結果は,優れた一致であった。最も重要なことであるが,NI測定に基づく正規化された弾性率(E(弾性率)/E_s(ソリッドマトリックスの弾性率))-p(空隙率)プロットから予測したように,細孔重複の閾値は,PAS調査に基づくR(有効先端半径)パラメータと一致した。

シソーラス用語： *絶縁膜 ,  *有機ケイ素化合物 ,  *ケイ酸塩ガラス ,  *多孔質体 ,  *細孔構造 ,  *位相幾何学 ,  空隙率 ,  *誘電率 ,  ナノインデンテーション ,  解析モデル ,  *Young率
準シソーラス用語： 多重構造 ,  有限要素モデル

分類 (1件)： セラミック材料  (HC02040T)

タイトルに関連する用語 (4件)： ケイ酸塩ガラス ,  弾性率 ,  細孔 ,  トポロジー