文献

J-GLOBAL ID：201302279517977917   整理番号：13A1616039

光触媒選択酸化の最前線

著者 (2件)： 田中庸裕 (京大 大学院) ,  田中庸裕 (京大)
資料名： 触媒討論会討論会A予稿集  (触媒討論会(A)講演予稿集)
巻： 112th  ページ： 112  発行年： 2013年09月11日 
JST資料番号： S0874A  ISSN： 1343-9936  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 光触媒における選択酸化反応について,気相接触酸化反応と液相選択酸化反応について述べ,その励起機構や反応機構について詳細に検討する。(著者抄録)

シソーラス用語： *光触媒 ,  *酸化 ,  *触媒活性 ,  選択性 ,  *反応機構 ,  酸化チタン ,  酸化バナジウム ,  酸化モリブデン ,  担持触媒 ,  気相反応 ,  *接触酸化 ,  エポキシ化 ,  液相反応 ,  アルケン ,  アルカン ,  二酸化ケイ素
準シソーラス用語： シリカ ,  *選択酸化

分類 (3件)： 光化学一般  (CB08010U) ,  不均一系触媒反応  (CB06100E) ,  塩基,金属酸化物  (CD01030Z)

物質索引 (2件)： プロペン ,  メタン

タイトルに関連する用語 (2件)： 光触媒 ,  選択酸化