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J-GLOBAL ID：201302279528044114   整理番号：13A1691486

Si及びSiO₂表面上に周期的及び最終的に分布したナノサイズ粒子の特性GIXRF及びGEXRFスペクトルの特質

Characteristic GIXRF and GEXRF spectral features of nano-sized particles periodically and evenly distributed on Si and SiO₂ surfaces

著者 (15件)： NOWAK S.H. (Univ. Fribourg, CHE) ,  BLACHUCKI W. (Univ. Fribourg, CHE) ,  CAO W. (Univ. Fribourg, CHE) ,  DOUSSE J.-Cl. (Univ. Fribourg, CHE) ,  HOSZOWSKA J. (Univ. Fribourg, CHE) ,  KAYSER Y. (Univ. Fribourg, CHE) ,  KAYSER Y. (Paul Scherrer Inst., Villigen, CHE) ,  REINHARDT F. (Physikalisch-Technische Bundesanstalt(PTB), Berlin, DEU) ,  HOENICKE P. (Physikalisch-Technische Bundesanstalt(PTB), Berlin, DEU) ,  SZLACHETKO J. (Paul Scherrer Inst., Villigen, CHE) ,  SZLACHETKO J. (Jan Kochanowski Univ., Kielce, POL) ,  BANAS D. (Jan Kochanowski Univ., Kielce, POL) ,  JABLONSKI L. (Jan Kochanowski Univ., Kielce, POL) ,  KUBALA-KUKUS A. (Jan Kochanowski Univ., Kielce, POL) ,  PAJEK M. (Jan Kochanowski Univ., Kielce, POL)
資料名： X線分析討論会講演要旨集  (X線分析討論会講演予稿集)
巻： 49th  ページ： 19-20  発行年： 2013年09月23日 
JST資料番号： S0881A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

シソーラス用語： すれすれ入射 ,  *蛍光X線分析 ,  ウエハ【IC】 ,  ケイ素 ,  二酸化ケイ素 ,  幾何光学 ,  *ナノ粒子 ,  クロム ,  シミュレーション
準シソーラス用語： ケイ素基板

分類 (1件)： 無機物質中の元素の物理分析  (CC03022H)

タイトルに関連する用語 (6件)： Si ,  SiO2 ,  分布 ,  ナノサイズ ,  スペクトル ,  特質