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J-GLOBAL ID：201302279579725957   整理番号：13A0652933

歪み放出集合体を用いる特異な基板上の官能性ナノワイヤ素子の組立て

Fabrication of Functional Nanowire Devices on Unconventional Substrates Using Strain-Release Assembly

著者 (2件)： DURHAM John W., III (North Carolina State Univ., North Carolina, USA) ,  ZHU Yong (North Carolina State Univ., North Carolina, USA)
資料名： ACS Applied Materials & Interfaces  (ACS Applied Materials & Interfaces)
巻： 5  号： 2  ページ： 256-261  発行年： 2013年01月23日 
JST資料番号： W2329A  ISSN： 1944-8244  CODEN： AAMICK  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 弾性高分子(PDMS)基板の一軸延伸状態でケイ素ナノワイヤを表面に散布し,延伸歪みを解消してナノワイヤを配向させた。原子間力顕微鏡によりキャラクタリゼーションを行った。プラスチック基板上にケイ素ナノワイヤ歪センサを形成した。1.6%までの曲げ歪み検出および歪感度係数>1000,回復時間2s,繰返し安定性を確かめた。転写印刷によりPET基板への移行を試み,フレキシブルエレクトロニクスへの応用を示唆した。

シソーラス用語： *ポリジメチルシロキサン ,  基板 ,  *延伸 ,  *ナノワイヤ ,  *緩和現象 ,  *制御 ,  原子間力顕微鏡 ,  プリント基板 ,  *センサ ,  係数 ,  時間 ,  繰返し試験 ,  安定性 ,  転写 ,  ポリエチレンテレフタレート ,  電子技術
準シソーラス用語： PDMS【重合体】 ,  *ケイ素ナノワイヤ ,  *ひずみ解放 ,  プラスチック基板 ,  フレキシブルエレクトロニクス ,  回復時間 ,  感度係数 ,  *配向制御 ,  *歪センサ ,  一軸延伸

分類 (3件)： 高分子担体・触媒反応  (CG03030W) ,  半導体薄膜  (BK14040E) ,  長さ,面積,断面,体積,容積,角度の計測法・機器  (AD05020O)

タイトルに関連する用語 (6件)： 歪み ,  放出 ,  集合体 ,  官能性 ,  ナノワイヤ ,  組立て