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J-GLOBAL ID：201302279883398113   整理番号：13A1037462

酸性配位高分子を用いたプロトン伝導体の創成

著者 (2件)： 山田鉄兵 (九大 大学院) ,  山田鉄兵 (九大 CMS)
資料名： 日本化学会講演予稿集  (日本化学会春季年会講演予稿集)
巻： 93rd  号： 2  ページ： 344  発行年： 2013年03月08日 
JST資料番号： S0493A  ISSN： 0285-7626  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 金属イオンと架橋配位子からなる配位高分子に酸点およびプロトン伝導パスを構築することで,プロトン伝導性配位高分子という新たな分野を構築した。酸性配位高分子を合成する手法として「保護-脱保護法」を新規に開拓し,また得られた酸性配位高分子のプロトン伝導性を評価することで,高いプロトン伝導性を示す酸性配位高分子を見出した。(著者抄録)

シソーラス用語： *導体 ,  配位子 ,  電気伝導率 ,  *亜鉛錯体 ,  X線回折 ,  結晶構造 ,  芳香族カルボン酸 ,  化合物 ,  吸着 ,  水分子 ,  吸着等温式 ,  ジカルボン酸
準シソーラス用語： *配位重合体 ,  プロトン伝導性 ,  *プロトン伝導体 ,  架橋配位子 ,  誘導体

分類 (2件)： 第11族,第12族元素の錯体  (CE01050Y) ,  その他の無機化合物の電気伝導  (BM03044O)

物質索引 (1件)： テレフタル酸

タイトルに関連する用語 (4件)： 酸性 ,  配位高分子 ,  プロトン伝導体 ,  創成