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J-GLOBAL ID:201302281957252927   整理番号:13A0649234

論理トランジスターおよび相補型インバーター用の層状材料と垂直積層多重ヘテロ構造

Vertically stacked multi-heterostructures of layered materials for logic transistors and complementary inverters
著者 (7件):
資料名:
巻: 12  号:ページ: 246-252  発行年: 2013年03月 
JST資料番号: W1364A  ISSN: 1476-1122  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: イギリス (GBR)  言語: 英語 (EN)
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グラフェンは電子デバイス用材料として期待されているが,論理デバイスに必要な大きいオン-オフ比を得ることができない。本研究では,層状化合物として,グラフェン,MoS2あるいはBi2Sr2Co2O8を積層した垂直電界効果トランジスター(VFET)を作製し,評価を行った。結果として室温オン-オフ比が103以上で,5000Acm-1の高い電流密度を達成した。数層のMoS2を単層グラフェンと金属薄膜でサンドイッチしたnチャンネルトランジスターと,Bi2Sr2Co2O8を用いたpチャンネルとを積層することで相補型インバーターを作製し,良好な特性を得た。
シソーラス用語:
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分類 (3件):
分類
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トランジスタ  ,  セラミック・陶磁器の製造  ,  炭素とその化合物 

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