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J-GLOBAL ID：201302283058608838   整理番号：13A0860094

超高速パルス光を用いたサーモリフレクタンス法によるナノ薄膜・界面の熱物性評価

A measurement technique for the thermophysical properties of thin film and an interface.

著者 (3件)： 八木貴志 (産業技術総合研 計測標準研究部門) ,  竹歳尚之 (産業技術総合研 計測標準研究部門) ,  馬場哲也 (産業技術総合研 計測標準研究部門)
資料名： 応用物理  (JSAP International)
巻： 82  号： 5  ページ： 397-402  発行年： 2013年05月10日 
JST資料番号： F0252A  ISSN： 0369-8009  CODEN： OYBSA  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 解説  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 薄膜・界面の熱物性は,現代の電子機器や情報機器に用いられるデバイスの発熱や内部の温度を適切に制御するために重要である。薄膜において特徴的な,微細な結晶粒,結晶欠陥,また成膜プロセスに起因する気体分子の混入などは熱伝導のキャリヤであるフォノンや自由電子を散乱する要因となるため,薄膜の熱物性値は物質本来の値とは異なることが多い。またナノスケールの多層構造では,異種物質の接触面において生じる熱抵抗(界面熱抵抗)も無視できない影響を及ぼすことがある。本稿では,金属薄膜の膜厚方向の熱拡散率を定量的に測定できるパルス光加熱サーモリフレクタンス法の概要を紹介し,薄膜の熱拡散率の計測例や界面熱抵抗の評価について紹介する。(著者抄録)

シソーラス用語： 計測 ,  熱反射率 ,  熱抵抗 ,  温度伝導率 ,  *モリブデン ,  金属薄膜 ,  スパッタ蒸着 ,  *窒化アルミニウム ,  *Kapitza抵抗 ,  ジルコニウム ,  二酸化ケイ素 ,  不揮発性メモリ ,  アンチモン化合物 ,  テルル化物 ,  ゲルマニウム化合物 ,  PRAM【メモリ】 ,  テルル化アンチモン
準シソーラス用語： サーモリフレクタンス法 ,  *サーモリフレクタンス ,  *熱拡散率 ,  相変化メモリ

分類 (1件)： 比熱・熱伝導一般  (BL05021E)

引用文献 (38件)：

• TAKETOSHI, N. High Temperatures High Pressures. 1997, 29, 59-66
• TAKETOSHI, N. Jpn. J. Appl. Phys. 1999, 38, L1268
• TAKETOSHI, N. Rev. Sci. Instrum. 2003, 74, 5226
• TAKETOSHI, N. Rev. Sci. Instrum. 2005, 76, 094903
• BABA, T. Jpn. J. Appl. Phys. 2011, 50, 11RA01

タイトルに関連する用語 (6件)： パルス光 ,  サーモリフレクタンス法 ,  ナノ薄膜 ,  界面 ,  熱物性 ,  評価