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J-GLOBAL ID：201302283070717375   整理番号：13A1776942

共鳴軟X線反射率による対称的ジブロック共重合体薄膜の正確な構造の研究

Precise structural investigation of symmetric diblock copolymer thin films with resonant soft X-ray reflectivity

著者 (9件)： MA Wei (UPMC Paris 06, Paris, FRA) ,  VODUNGBO Boris (UPMC Paris 06, Paris, FRA) ,  NILLES Katja (Univ. Mainz, Mainz, DEU) ,  LIU Ya (Xi’an Jiaotong Univ., CHN) ,  THEATO Patrick (Univ. Mainz, Mainz, DEU) ,  THEATO Patrick (Seoul National Univ., Seoul, KOR) ,  THEATO Patrick (Univ. Hamburg, Hamburg, DEU) ,  LUNING Jan (UPMC Paris 06, Paris, FRA) ,  LUNING Jan (Synchrotron SOLEIL, Gif-sur-Yvette, FRA)
資料名： Soft Matter  (Soft Matter)
巻： 9  号： 37  ページ： 8820-8825  発行年： 2013年10月07日 
JST資料番号： W2327A  ISSN： 1744-683X  CODEN： SMOABF  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 共鳴軟X線反射率測定(275~290eV,炭素K端)によって,スピンコーティングでシリコン基板上に作成したPS/PAEESジブロック共重合体の自己組織化多層構造の,表面および埋もれた界面の正確な構造およびPSとPAEESの光学的性質を求めた。得られた結果は吸収端近傍X線吸収微細構造から求めた屈折率のβ(吸収)およびKramer-Kronig式から求めたγ(分散)とほぼ一致した。反射率プロファイルのカーブフィッティングによってポリマーの正確な多層構造を求めた。ここでPSはポリスチレンを,PAEESはポリ(4-(2-(2-(2-アセトキシ)エトキシ)エトキシ)スチレン)を表す。

シソーラス用語： スピンコーティング ,  ポリスチレン ,  曲線あてはめ ,  反射率 ,  EXAFS ,  屈折率 ,  多層構造 ,  *ジブロック共重合体
準シソーラス用語： *X線反射率測定 ,  シリコン基板 ,  拡張X線吸収微細構造

分類 (3件)： 高分子固体の構造と形態学  (CG02022M) ,  X線技術  (BA02060D) ,  その他の構造決定法  (BK01070L)

物質索引 (1件)： 4-[2-(2-アセトキシエトキシ)エトキシ]スチレン

タイトルに関連する用語 (6件)： 共鳴 ,  軟X線 ,  反射率 ,  ジブロック共重合体 ,  薄膜 ,  研究