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J-GLOBAL ID：201302283119711041   整理番号：13A0895782

高周波応用のための[Fe65Co35-O/SiO2]n多層薄膜の磁性

Magnetic properties of [Fe65Co35-O/SiO2]n multilayer thin films for high-frequency application
著者 (7件)：
WANG Y.

WANG Y. について

(Xiamen Univ., Dep. of Materials Sci. and Engineering, Coll. of Materials, 361005, Xiamen, P.R. China)

Xiamen Univ., Dep. of Materials Sci. and Engineering, Coll. of Materials, 361005, Xiamen, P.R. China について

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GENG H.

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(Xiamen Univ., Dep. of Materials Sci. and Engineering, Coll. of Materials, 361005, Xiamen, P.R. China)

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WANG J. B.

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(Lanzhou Univ., Key Lab. for Magnetism and Magnetic Materials of MOE, 730000, Lanzhou, P.R. China)

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NIE S.

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(Xiamen Univ., Dep. of Materials Sci. and Engineering, Coll. of Materials, 361005, Xiamen, P.R. China)

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WANG L. S.

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CHEN Y.

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(Xiamen Univ., Dep. of Materials Sci. and Engineering, Coll. of Materials, 361005, Xiamen, P.R. China)

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PENG D. L.

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資料名：
Applied Physics. A. Materials Science & Processing  (Applied Physics. A. Materials Science & Processing)

Applied Physics. A. Materials Science & Processing について


巻： 111  号： 2  ページ： 569-574  発行年： 2013年05月 
JST資料番号： D0256C  ISSN： 0947-8396  CODEN： APHYCC  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： ドイツ (DEU)  言語： 英語 (EN)
抄録/ポイント：
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異なるSiO2分離層厚さ(t=0-3nm)と固定したFe65Co35-O層厚さ(5.4nm)の一連の[Fe65Co35-O/SiO2]n多層薄膜を(100)シリコンとガラス基板上に反応性マグネトロン共スパッタリングによって作製した。微細構造解析と磁性測定の結果はFe65Co35-Oの結晶粒径と磁性はSiO2層の厚さを変えて調節できることを示している。すべての薄膜はSiO2単層の厚さがt=0nmから3nmまで変化する時に明白な面内一軸性磁気異方性(IPUMA)を示す。難易軸保磁力(Hch)はt=2nmの時に16Oeの最小値を示す。t=1nm及び2nmに対して,IPUMA場(Hk)はそれぞれ95Oeと207Oe,飽和磁化(Ms)はそれぞれ1.8Tと1.6T,(3.0Ghz以下での)複素透磁率の実部はそれぞれ217と104,強磁性共鳴周波数(fr)はそれぞれ3.6GHzと5.2GHzである。Copyright 2012 Springer-Verlag Translated from English into Japanese by JST.
シソーラス用語：
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金属薄膜

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*マグネトロンスパッタリング

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*鉄合金

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コバルト含有合金

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保磁力

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マイクロマグネティックシミュレーション

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,  強磁性共鳴,反強磁性共鳴,フェリ磁性共鳴 
(BM07030P)

強磁性共鳴,反強磁性共鳴,フェリ磁性共鳴 について

,  磁性材料 
(NA04040H)

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