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J-GLOBAL ID：201302283291005523   整理番号：13A1498775

単一電荷無機小分子の逐次積層自己組織化および解離 表面パターン形成を目指して

Layer-by-layer self-assembly and dosassembly of single charged inorganic small molecules: towards surface patterning

著者 (6件)： CHENG Mengjiao (Beijing Univ. Chemical Technol., Beijing, CHN) ,  JIANG Chao (Beijing Univ. Chemical Technol., Beijing, CHN) ,  DING Zhiyi (Beijing Univ. Chemical Technol., Beijing, CHN) ,  ZHANG Yajun (Beijing Univ. Chemical Technol., Beijing, CHN) ,  FU Yu (Northeastern Univ., Shenyang, CHN) ,  SHI Feng (Beijing Univ. Chemical Technol., Beijing, CHN)
資料名： Physical Chemistry Chemical Physics  (Physical Chemistry Chemical Physics)
巻： 15  号： 36  ページ： 15172-15176  発行年： 2013年09月28日 
JST資料番号： A0271C  ISSN： 1463-9076  CODEN： PPCPFQ  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： ポリ(ジアリルジメチルアンモニウムクロリド)カチオン/クロロ金酸アニオン交互積層を検討した。紫外可視吸収スペクトル,X線光電子スペクトル,原子間力顕微鏡によりキャラクタリゼーションを行った。pH=3.7では自己組織化積層構造(A)が生成したが,低pHでは分解した。配位子から金属へのLMCTにより結果を説明した。自己組織化膜上にフォトレジストをスピンコーティングし,フォトリソグラフィー後,pH制御によりAのパターンを形成した。

シソーラス用語： *ポリジアリルジメチルアンモニウムクロリド ,  *高分子電解質 ,  *クロロ錯体 ,  *金錯体 ,  アニオン ,  *インタリーブ ,  自己組織化 ,  紫外可視吸収スペクトル ,  X線光電子スペクトル ,  原子間力顕微鏡 ,  積層構造 ,  pH依存性 ,  電荷移動 ,  フォトレジスト ,  スピンコーティング ,  *フォトリソグラフィー ,  *パターン形成
準シソーラス用語： LMCT ,  *カチオン性高分子 ,  *クロロ金酸 ,  *交互積層

分類 (3件)： 薄膜成長技術・装置  (BK14020I) ,  高分子固体のその他の性質  (CG02025L) ,  固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (6件)： 電荷 ,  小分子 ,  逐次 ,  自己組織化 ,  解離 ,  パターン形成