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J-GLOBAL ID:201302284946263950   整理番号:13A1736358

水性ペルフルオロオクタンスルホン酸塩(PFOS)の超音波脱フッ素に及ぼす真空紫外線の影響

Effect of vacuum ultraviolet on ultrasonic defluorination of aqueous perfluorooctanesulfonate
著者 (6件):
資料名:
巻: 234  ページ: 106-114  発行年: 2013年12月 
JST資料番号: D0723A  ISSN: 1385-8947  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: オランダ (NLD)  言語: 英語 (EN)
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本研究では,空気雰囲気下で水性ペルフルオロオクタンスルホン酸(PFOS)の脱フッ素のために紫外線(VUV,λ=185nm)支援超音波(US,f=600kHz)照射の最初の使用を発表した。VUV,USおよびVUV支援US系の脱フッ素性能に及ぼす反応時間,pH,温度および初期PFOS濃度の影響を比較した。USとVUV支援US系の両方におけるPFOS脱フッ素中に生成した中間体をLC/MS/MSを用いて検出した。VUVの導入がPFOSの超音波脱フッ素効率を強化し,強化の程度は特定の反応条件に依存することを結果は示した。PFOS(10mg/L)の脱フッ素効率はVUV支援US照射下で283Kにおいて240分後に88.47%に達し,それはUS照射単独で達成したものより12.01%高かった。US照射単独によって達成したものと比較して,PFOS(10mg/L)の脱フッ素効率は,VUV支援US系を使用して10~30mg/Lの初期濃度で11.65%,283~298Kで13.03%,5~7のpHレベルで11.54%増加した。USおよびVUV支援US系の両方で主要な中間体として低レベルの短鎖ペルフルオロ化カルボン酸(PFCAs)を検出し,VUV支援US系の中間体の濃度はUS単独の系のものより低かった。VUV照射の導入は,PFOSとその中間体の両方の脱フッ素についてマルチアプローチを提供し,従って空気雰囲気下でPFOSの超音波脱フッ素を向上できた。Copyright 2013 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.
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分類 (2件):
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その他の汚染原因物質  ,  用水の化学的処理 
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