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J-GLOBAL ID：201302285042661707   整理番号：13A1624559

ブロックポリマーを利用した高機能材料の開発 ブロック共重合体を利用したフォトニック結晶

Photonic Crystals Fabricated Using Block Copolymers

著者 (1件)： 岡本茂 (名古屋工大 大学院工学研究科)
資料名： 日本ゴム協会誌  (Journal of the Society of Rubber Science and Technology, Japan)
巻： 86  号： 10  ページ： 315-320  発行年： 2013年10月15日 
JST資料番号： G0157A  ISSN： 0029-022X  CODEN： NGOKAF  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 解説  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 光導波路及びフォトニック結晶についてレビューすると共に,高分子フォトニック結晶に関する著者等の研究を紹介した。ブロック共重合体のミクロ相分離構造は,そのドメインサイズがフォトニック結晶に相当する。その構造周期を光の波長程度に増大させるために,超高分子量ブロック共重合体を用い,希薄溶液に貧溶媒を添加することで,周期構造を形成することに成功した。ポリマ濃度や貧溶媒量により,種々の波長を反射する溶液を調製できた。これを用いて,分布帰還型レーザ共振器を開発した。今後は,屈折率や誘電率の差異の大きなドメイン構造や,磁気光学効果を有する材料の開発が期待できる。

シソーラス用語： *ブロック共重合体 ,  結晶 ,  自己組織系 ,  *非線形光学材料 ,  モルフォロジー ,  制御 ,  ミクロドメイン ,  希薄溶液 ,  高分子溶液 ,  高分子量 ,  光通信 ,  光導波路 ,  分子構造 ,  臨界溶解温度 ,  フォトニックバンドギャップ ,  溶媒 ,  機構 ,  事例研究 ,  ポリメタクリル酸アルキル ,  ポリスチレン ,  レーザ共振器 ,  ナノ構造 ,  閉込め ,  周期構造 ,  屈折率 ,  誘電率 ,  磁気光学効果 ,  *フォトニック結晶 ,  ジャイロイド構造 ,  ミクロ相分離構造 ,  光閉込め ,  *構造制御 ,  超高分子量 ,  *貧溶媒 ,  PtBMA【重合体】
準シソーラス用語： フォトニック結晶光導波路 ,  ポリメタクリル酸t-ブチル ,  形成機構 ,  *事例紹介

分類 (2件)： 高分子材料一般  (YH07010B) ,  高分子固体の物理的性質  (CG02024U)

引用文献 (34件)：

• OHTAKA, K. Phys. Rev., B. 1979, 19, 5057
• YABLONOVITCH, E. Phys. Rev. Lett. 1987, 58, 2059
• JOHN, S. Phys. Rev. Lett. 1987, 58, 2486
• FINK, Y. J. Lightwave Technol. 1999, 17, 1963
• URBAS, A. M. Adv. Mater. 2000, 12, 812

タイトルに関連する用語 (5件)： ポリマー ,  高機能材料 ,  開発 ,  ブロック共重合体 ,  フォトニック結晶