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J-GLOBAL ID：201302285545318066   整理番号：13A1514083

放電の点描で製作された長周期光ファイバグレーティングの放電条件の違いによる共振波長変動

Resonance Wavelength Fluctuations Caused by Different Discharge Conditions in Long-Period Fiber Gratings Fabricated by a Point-by-Point Arc Discharge Technique

著者 (2件)： MORISHITA Katsumi (Osaka Electro-Communication Univ., Osaka, JPN) ,  YAMAMOTO Yuya (Osaka Electro-Communication Univ., Osaka, JPN)
資料名： 電子情報通信学会技術研究報告  (IEICE Technical Report (Institute of Electronics, Information and Communication Engineers))
巻： 113  号： 183(OFT2013 13-21)  ページ： 11-16  発行年： 2013年08月15日 
JST資料番号： S0532B  ISSN： 0913-5685  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 長周期光ファイバグレーティングの共振波長の変動は,長周期光ファイバグレーティングを用いる光デバイスの設計及び製作に大きな問題を引き起こす。放電による点描で製作した長周期光ファイバグレーティングにおいて,共振波長は放電条件を変えると大きく変動することを初めて明らかにした。電極間隔を狭く,放電電流を強くするほど,放電時間に対する共振波長の変動は大きくなり,その変動幅は20nmにもなった。放電時間を次第に長くしていくと,最初共振波長は短波長側に移動し,最小になった後,長波長側に移動し始めた。この共振波長の変化は,緩和時間の短い残留応力緩和と緩和時間の長いガラス構造緩和の競合により起こると考えられる。(著者抄録)

シソーラス用語： *回折格子 ,  *共振周波数 ,  波長 ,  *アーク放電 ,  加工条件 ,  ガラス構造 ,  応力緩和
準シソーラス用語： 残留応力緩和 ,  *長周期ファイバグレーティング

分類 (2件)： 光導波路,光ファイバ,繊維光学  (BD06030H) ,  光デバイス一般  (BD06010L)

タイトルに関連する用語 (5件)： 放電 ,  製作 ,  長周期 ,  ファイバグレーティング ,  共振波長