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J-GLOBAL ID：201302285736626240   整理番号：13A1507940

気泡のある場合およびない場合で電解質水溶液中で雲母とポリスチレン表面間でのAFMフォース

AFM forces between mica and polystyrene surfaces in aqueous electrolyte solutions with and without gas bubbles

著者 (3件)： SAAVEDRA Jorge H. (Chemical Engineering Dep. and Surface Analysis Lab. (ASIF), Univ. of Concepcion, PO Box 160-C, Correo 3, Concepcion, CHL) ,  ACUNA Sergio M. (Dep. of Food Engineering, Univ. of Bio-Bio, PO Box 447, Chillan, CHL) ,  TOLEDO Pedro G. (Chemical Engineering Dep. and Surface Analysis Lab. (ASIF), Univ. of Concepcion, PO Box 160-C, Correo 3, Concepcion, CHL)
資料名： Journal of Colloid and Interface Science  (Journal of Colloid and Interface Science)
巻： 410  ページ： 188-194  発行年： 2013年11月15日 
JST資料番号： C0279A  ISSN： 0021-9797  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 慎重に脱ガスした水およびNaCl,CaCl₂,およびAlCl₃水溶液中で原子間力顕微鏡(AFM)を用いて,平らな雲母基板とポリスチレンミクロスフェア間のフォースカーブを測定した。使用した水のpHは脱ガス処理によって変化せず,その値はpH6に近かった。電解質濃度は,10^-4から10^-2MまでおよびpHは4.7から5.1までの範囲で変化した。雲母とポリスチレン間の反発遠距離静電力は,電解質の存在によって弱められ,遠距離引力によって相殺されて,存在する引力のvan der Waals力より遠距離である疎水性力としてみなした。残りの気泡と新たに生じた気体空洞の付着性架橋および他の未知な力を含むこの力は独特な指数則によって十分に表現された。前因子および減衰長は,電解質のタイプ,濃度およびpHにあまり敏感ではなく,付着性架橋に加えて法則中に含まれたどんな新しい力も,非古典的静電メカニズムに従うことを示した。しかし,液体/固体接触角および液体/蒸気表面張力は,電解質濃度および架橋力を増やす気泡および空洞の安定性を増加させる結合と共に増加することもわかった。明らかに,この効果は経験的な力の法則では隠されていた。Copyright 2013 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： *雲母 ,  DLVO理論 ,  *原子間力顕微鏡 ,  気泡 ,  *ポリスチレン ,  電解質溶液 ,  *疎水性 ,  *付着力 ,  接触角 ,  界面張力 ,  *相互作用
準シソーラス用語： ナノバブル ,  *疎水性親水性相互作用 ,  表面張力

分類 (3件)： 界面化学一般  (CB12010J) ,  高分子溶液の物理的性質  (CG02013S) ,  珪酸塩鉱物  (DE08030A)

タイトルに関連する用語 (5件)： 気泡 ,  電解質水溶液 ,  雲母 ,  ポリスチレン ,  AFM