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J-GLOBAL ID：201302286085221634   整理番号：13A1486480

パルスレーザ蒸着による異なる基板上のFe₃O₄薄膜に関する構造,磁気的性質および輸送特性

The Structure, Magnetic and Transport Properties of Fe₃O₄ Thin Films on Different Substrates by Pulsed Laser Deposition

著者 (2件)： HUANG Xuelian (National Univ. Singapore, Singapore) ,  DING Jun (National Univ. Singapore, Singapore)
資料名： Journal of the Korean Physical Society  (Journal of the Korean Physical Society)
巻： 62  号： 12  ページ： 2228-2232  発行年： 2013年06月28日 
JST資料番号： T0357A  ISSN： 0374-4884  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 韓国 (KOR)  言語： 英語 (EN)

シソーラス用語： *酸化鉄 ,  *磁性薄膜 ,  レーザ蒸着 ,  基板 ,  ガラス ,  ケイ素 ,  酸化亜鉛 ,  アルミナ ,  X線回折 ,  結晶構造 ,  磁化 ,  温度依存性 ,  Ramanスペクトル ,  X線光電子スペクトル ,  磁気ヒステリシス ,  *強磁性 ,  *磁気抵抗効果 ,  パルスレーザ蒸着 ,  二酸化ケイ素
準シソーラス用語： シリカ ,  *四三酸化鉄

分類 (3件)： 酸化物薄膜  (BK14050P) ,  酸化物結晶の磁性  (BM06050E) ,  その他の無機化合物の電気伝導  (BM03044O)

タイトルに関連する用語 (4件)： パルスレーザ蒸着 ,  薄膜 ,  磁気的性質 ,  輸送特性