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J-GLOBAL ID：201302286261036717   整理番号：13A0247014

表面粗さとフッ素の組み合わせを介した超撥水SiO₂層の合成

Synthesis of superhydrophobic SiO₂ layers via combination of surface roughness and fluorination

著者 (3件)： KIM Eun-kyeong (School of Materials Sci. and Engineering, Inha Univ., Incheon 402-751, KOR) ,  YEONG KIM Ji (School of Materials Sci. and Engineering, Inha Univ., Incheon 402-751, KOR) ,  SUB KIM Sang (School of Materials Sci. and Engineering, Inha Univ., Incheon 402-751, KOR)
資料名： Journal of Solid State Chemistry  (Journal of Solid State Chemistry)
巻： 197  ページ： 23-28  発行年： 2013年01月 
JST資料番号： H0505A  ISSN： 0022-4596  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 表面粗さとフッ素の組み合わせを介した超撥水SiO₂層の調製について述べた。ゾルゲル法により調製され,フッ素源としてトリクロロ(1H,1H,2H,2H-ペルフルオロオクチル)シランを含有する電子噴霧SiO₂前駆体溶液は,非常に粗いフッ化SiO₂層を生成した。平坦なフッ化SiO₂層とは対照的に,粗いフッ化SiO₂層は,種々の表面張力の液滴に対してはるかに強化された撥水性を示した。超撥水SiO₂層の表層分率と付着仕事を,Cassie-BaxterおよびYoung-Dupre式に基づきそれぞれ決定した。この研究で調製した超撥水SiO₂層の30日の満足な長期安定性,耐紫外線性および400°Cまでの熱的安定性により,有望な実用化を確認した。Copyright 2013 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： *表面粗さ ,  *ケイ酸 ,  ゾル-ゲル法 ,  ケイ素化合物 ,  塩化ケイ素 ,  噴霧 ,  安定性 ,  界面張力 ,  紫外線 ,  熱安定性
準シソーラス用語： トリクロロシラン ,  *超撥水 ,  長期安定性 ,  電子噴霧 ,  熱的安定性 ,  表面張力

分類 (2件)： 塩基,金属酸化物  (CD01030Z) ,  セラミック・磁器の性質  (YC03030G)

タイトルに関連する用語 (5件)： 表面粗さ ,  フッ素 ,  組み合わせ ,  撥水 ,  SiO2