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J-GLOBAL ID:201302286283219009   整理番号:13A0646184

異なる厚さのBa-ヘキサフェライト薄膜の特性

Properties of Ba-hexaferrite thin films with different thicknesses
著者 (8件):
資料名:
巻: 271  ページ: 362-368  発行年: 2013年04月15日 
JST資料番号: B0707B  ISSN: 0169-4332  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: オランダ (NLD)  言語: 英語 (EN)
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いろいろな厚さのM型Ba-ヘキサフェライト(BaM)薄膜をRFマグネトロンスパッタリングで(001)Al2O3基板上に堆積した。結晶学的,モルフォロジおよび磁気特性に対する膜の厚さの効果を調べた。実験結果は,BaM薄膜の特性は厚さに強く依存し,薄い膜ほど狭いXRD FWHMをもつより良好な(00l)面配向が得られやすいことを示した。厚さ150nmの膜は膜面に垂直なc軸配向をもつ柱型結晶粒をもつ。しかし,厚さが150から550nmに増加すると,針型の結晶粒が増加する。したがって,膜の(00l)面配向のテクスチャが悪化する。飽和磁化と垂直結晶磁気異方性も徐々に減少する。これらの変化の機構は厚さの増加による膜中のランダムな核形成サイトの増加と歪みの緩和によるものである。Copyright 2013 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.
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分類 (3件):
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酸化物薄膜  ,  磁区・磁化過程一般  ,  磁性材料 
タイトルに関連する用語 (4件):
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